微型电子技术帮助我们制造更智能的手机
- 2020/4/27 13:29:51 24139
- 来源：仪表网
【仪表网 仪表下游】说起手机，相信大家都不陌生，手机属于移动终端，是可以握在手上的机。早期因为个头较大有大哥大的俗称，目前已发展至5G时代。1973年4月，美国工程技术员“马丁·库帕”发明部推向民用的手机，“马丁·库帕”从此也被称为现代“手机之父”。直至现在，手机成为人们生活中非常重要的工具，給人们带来美好的生活体验。
随着科学技术的发展，更多更好的智能产品出现在我们生活当中，2019年，一项新技术被用于制造智能手机，使得这些小巧的智能手机中单个芯片上能容纳85亿个晶体管。在相同空间中安装越多的晶体管意味着智能手机、计算机和其他电子设备能实现更快的速度和更强大的功能。这就是利用极紫外线(EUV)制造微型电子设备技术。
极紫外线是一种使用极紫外(EUV)波长的下一代光刻技术，其波长为13.5纳米，预计将于2020年得到广泛应用。几乎所有的光学材料对13.5nm波长的极紫外光都有很强的吸收，因此，EUV光刻机的光学系统只有使用反光镜 。
值得指出的是，EUV光刻技术的研发始于20世纪80年代。早希望在半周期为70nm的节点(对应逻辑器件130nm节点)就能用上EUV光刻机 。可是，这一技术一直达不到晶圆厂量产光刻所需要的技术指标和产能要求。一拖再拖，直到2016年，EUV光刻机仍然没能投入量产。晶圆厂不得不使用193nm浸没式光刻机，依靠双重光刻的办法来实现32nm存储器件、20nm和14nm逻辑器件的生产。不断延误，对EUV技术来说，有利也有弊。
一方面，它可以获得更多的时间来解决技术问题，提高性能参数；另一方面，下一个技术节点会对EUV提出更高的要求。EUV光刻技术的发展能否赶得上集成电路制造技术的要求?这仍然是一个问题。当然，EUV光刻技术的进步也是巨大的。截止2016年，用于研发和小批量试产的EUV光刻机，已经被安装在晶圆厂，并投入使用 。
后，小编了解到，使用EUV进行光刻需要一种全新的光学技术：新型UV光源和新型光学器件。EUV需要使用“反射”而不是通常的“透射”光学元件，因为没有材料可以透射EUV波长的光。另外，还需要一个新环境，由于大气压下容易吸收EUV，因此该系统需要在高真空环境下工作。NIST的SURF团队与业界合作开发了不同方式，与大型公司和行业协会合作，针对新光学器件开发仪器和测试。
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