K675X 三靶溅射镀膜仪

EMITECH K675X 三靶溅射镀膜仪   ——高分辨率，大样品镀铬或其它金属  K675X溅射镀膜系统装有磁电管靶可增加溅射效率，它使用低电压，可得到薄而精细的涂层。  在K675X中放置了三个靶面，可镀非常大直径的样品，加上旋转样品台，保证了均匀沉积。这种方式不需要特殊的靶面，而用标准标即可。  多靶系统在半导体晶圆工业尤为适用。它使用涡轮分子泵，前级为旋转机械泵。集成的仪器面板及即插即用的电子学zui大的“up-time”，以及用户友好设计，保证了多学科领域的应用。  溅射参数可预设，包括气体放气电磁阀。独立的真空泵系统由仪器自动控制。它可用金作为溅射靶材，在需要预清洗或去除氧化层时，也可选用其它靶材，如铬靶。  闸门作为标准配置，这样在维持真空时即可进行溅射清洁和溅射循环。  仪器特点   ● 配置三个靶面  ● 涡轮分子泵抽气系统  ● 全自动控制  ● Peltier冷却溅射头  ● 精细涂层（0.5nm Cr粒子）  ● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置  ● 薄膜沉积（典型为5nm）  ● 直径为300mm腔室  ● 可选双溅射头  仪器优点   ● 可对大样品进行镀膜，如：8英寸晶圆  ● 可溅射易氧化金属的精细颗粒，如：铬或铱  ● 易操作  ● 无需水冷却  ● 超高分辨率，可复制涂层  ● 适应各种样品  ● 重复膜厚沉积  ● 样品容易装载和卸载，包括8英寸晶圆  ● 不需要打开真空即可进行两种金属顺序涂层  技术规格  仪器尺寸：450mm W x 500mm D x 300mm H (总高 630mm)  工作腔室：硼硅酸盐玻璃 300mm Dia. x 20mm H  安全钟罩：聚碳酸酯  重量：42公斤  靶：54 mm 直径 x 0.3mm 厚x 3(铬作为标配靶材)  旋转样品台：可调的6 至 8 英寸晶圆尺寸,到靶距离60mm  真空范围：ATM-1x10-5 mbar  沉积电流范围：0-450mA  沉积速率：0-15nm/分  溅射定时：0-4 分钟  电源：230 伏 50Hz(包括泵zui大电流为8安培)        115 伏 60Hz(包括泵zui大电流为16安培)  Services   Argon - Nominal 10 psi；             Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas)  真空泵：No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr