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托托科技 无掩模光刻 光学轮廓仪
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2026-07-08苏州市
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产品简介
托托科技 无掩模光刻 光学轮廓仪 微纳加工与精密检测系列设备
托托科技专注精密光学仪器研发制造，搭建微纳加工设备与精密检测设备两大核心装备矩阵，形成无掩模紫外光刻、织雀 ®3D 光刻、神影三合一光学轮廓仪等产品线，配套磁光、光电检测设备，覆盖半导体、生物医疗、超材料、精密光学、3C 电子、科研实验室等领域，实现微纳结构 “加工成型 — 三维形貌检测” 一体化解决方案。
详细信息
托托科技专注精密光学仪器研发制造，搭建微纳加工设备与精密检测设备两大核心装备矩阵，形成无掩模紫外光刻、织雀 ®3D 光刻、神影三合一光学轮廓仪等产品线，配套磁光、光电检测设备，覆盖半导体、生物医疗、超材料、精密光学、3C 电子、科研实验室等领域，实现微纳结构 “加工成型 — 三维形貌检测” 一体化解决方案。
托托科技 无掩模光刻 光学轮廓仪 微纳加工与精密检测系列设备
托托科技专注精密光学仪器研发制造，搭建微纳加工设备与精密检测设备两大核心装备矩阵，形成无掩模紫外光刻、织雀®3D光刻、神影三合一光学轮廓仪等产品线，配套磁光、光电检测设备，覆盖半导体、生物医疗、超材料、精密光学、3C电子、科研实验室等领域，实现微纳结构“加工成型 — 三维形貌检测”一体化解决方案。
1. 无掩模光刻
该系列依托DMD数字微镜与激光直写双技术路线，摒弃传统实体掩模版，省去制版成本与周期，支持矢量直写、平面大面积曝光、4096 阶灰度光刻，可制备 2D 平面图案与 2.5D 连续曲面微结构。设备分四大版本适配不同场景：教育版桌面机型、科研步进式机型、高速扫描量产机型、生命科学专用机型；加工精度覆盖0.3μm~2μm，加工幅面可达 4㎡，曝光速度可达 1200mm²/min，支持GDS/DWG/DXF通用版图文件。标配主动对焦、精准套刻、阵列参数测试功能，兼容SU-8厚胶，可制备高深宽比微流控、MEMS 器件、微透镜阵列、二维材料电极、超表面、防伪浮雕、掩模版等，还可定制手套箱、曲面、大尺寸特种光刻方案。
托托科技 无掩模光刻 光学轮廓仪
神影 MV-1000/MV-7000 三合一光学轮廓仪，集成白光干涉、共聚焦、景深融合、明场四种观测模式，一机完成纳米至毫米级全尺度表面三维轮廓检测，替代多台单一功能检测设备。 测量能力覆盖亚纳米划痕、微粗糙度、台阶高度、沟槽体积、面型曲率等二维、三维参数，粗糙度 RMS 重复性可达0.003nm。搭载自主 AI 算法，具备自动找焦、智能调平、1 秒图像融合功能；支持 200 亿像素三维拼接 + 区域导航，兼顾宏观全貌与微观细节。设备配备独立集成测头，附赠 SDK 开发包，可接入自动化产线；软件内置全套测量工具，支持一键生成标准化检测报告，自定义自动化检测流程并实现OK/NG自动良率判定。广泛用于光学元件、半导体晶圆、MEMS、陶瓷断口、微流控、3C 金属表面等样品缺陷与尺寸质控，完整承接光刻、3D打印样品成型后的形貌精度检测。
托托科技微纳加工+精密检测设备形成闭环链路：无掩模光刻实现二维、2.5D微图案快速制备，3D光刻完成三维复杂微纳结构一体成型，光学轮廓仪完成成品粗糙度、尺寸、面型精度无损检测，从研发打样到小批量量产全覆盖。设备选型丰富，桌面小型机型适配高校实验室教学与新材料研发，立式大行程高精度机型满足企业批量生产；材料兼容树脂、陶瓷、水凝胶、各类光刻胶、硅基、金属、光学玻璃等，覆盖生物医疗、半导体、清洁能源、精密光学、超材料、微电子等行业。公司拥有百项知识产权、百名技术研发人员与 500 余家合作企业，可提供设备定制、工艺咨询、材料配套一站式光学微纳解决方案。
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