K1050X K1050X射频等离子清洁刻蚀灰化仪

K1050X射频等离子清洁刻蚀灰化仪

K1050X射频等离子处理单元由固态射频发生器结合调谐电路组成。在等离子处理过程中，“自动调谐”功能可确保RF功率自动与系统或负载的任何变化进行阻抗匹配。这意味着将腔室内的射频等离子条件保持在状态-这很重要，因为它可以加快反应时间，提高结果的可重复性，并在RF周期内保护电源。具有同时两种处理气体流量针阀监控，全部或部分通气口控制。它的腔室为圆柱形，样品装载为抽屉式抽拉系统，方便使用。

K1050X等离子桶式反应器经过精心设计，可以承受大量使用-每天24小时处理某些等离子灰化计划-具有微处理器控制和自动操作功能，并具有耐用性和操作简便性。各向同性（各个方向）的桶式系统等离子刻蚀或等离子灰化，适用于广泛的应用。K1050X使用低压射频感应产生的气体放电来以柔和、可控的方式修饰样品表面或去除样品材料，与其它方法相比的一个显著优势是等离子蚀刻和灰化过程是干燥的（不需要湿化学药品），并且在相对较低的温度下进行，所产生的“燃烧”产物可通过真空系统方便地在气流中带走。

真空系统为旋转机械泵（K1050X）或可选用膜片泵作为前级真空的涡轮分子泵（K1050XT）。

此系统通常使用氧及氩的混合气体，氧去除有机物质（碳氢化合物），氩对样品表面进行刻蚀。K1050X RF等离子桶式反应器设计用于等离子蚀刻，等离子灰化和等离子清洁应用。射频等离子体可对各种样品和基板进行低温修饰。等离子体蚀刻在半导体行业应用较广，因为K1050X可以用于使用反应气体（例如CF 4）去除硅层，以及用于使用氧气去除光刻胶。

仪器特点：

•   紧凑的台式系统，节省空间

•   固态射频发生器及调谐电路，全自动控制，易操作

•   抽屉式结构，装/卸样品方便

•   两种处理气体

•   低温灰化过程

•  在灰化过程结束后自动终止

推荐应用：

•   煤的灰化；有机材料（例如环氧树脂，过滤器，食品等）微观灰化

•   SEM&TEM中有机样品刻蚀

•   SEM、TEM和SPM样品或样品夹Plasma清洁清洗

•   去除光刻胶及电子元件中的包胶，包括外延层的等离子蚀刻

•   塑料品的表面处理，实现从疏水到亲水的转化，改善塑料的油漆和上墨特性

•   石棉试样制备，人造矿物纤维及石棉检测

•   键合样品预处理

•   对于需要更清洁真空环境的等离子蚀刻和等离子清洁应用，请选用K1050XT

当等离子蚀刻应用涉及使用氧气作为工艺气体时，出于安全原因，强烈建议使用Edwards RV3 Fomblinized或类似的合成油旋转机械泵。当然，在需要避免使用油基旋转机械泵的地方，也可选择干式真空泵。注：本产品科研用途。