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型号:WZX/SD-900C 离子溅射蒸碳仪库号:M413872

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2026-06-05北京市
型号
型号:WZX/SD-900C
参数
品牌:其他品牌 产地:国产 加工定制:否
北京海富达科技有限公司

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产品简介
离子溅射蒸碳仪库号:M413872

离子溅射蒸碳仪(磁控靶) 型号:WZX/SD-900C库号:M413872 查看hh

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一、双功能技术原理

喷金喷碳仪集成直流溅射与碳纤维绳热蒸发蒸碳双功能,属于物理|气相沉积(PVD)复合技术范畴,是通用单一功能设备无法替代的方案。喷金功能采用直流溅射原理,在≤4×10⁻²mbar低真空环境下,氩气被电离产生等离子体,正离
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离子溅射蒸碳仪库号:M413872

离子溅射蒸碳仪(磁控靶) 型号:WZX/SD-900C库号:M413872   查看hh

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一、双功能技术原理

喷金喷碳仪集成直流溅射与碳纤维绳热蒸发蒸碳双功能,属于物理|气相沉积(PVD)复合技术范畴,是通用单一功能设备无法替代的方案。喷金功能采用直流溅射原理,在≤4×10⁻²mbar低真空环境下,氩气被电离产生等离子体,正离子高速轰击铂靶表面,使铂原子均匀沉积形成致密导电薄膜;喷碳功能采用定制化碳纤维绳热蒸发技术,通过28V高压、100A大电流瞬时加热碳纤维绳,使其快速蒸发并沉积为CHAO薄碳膜,膜层厚度可通过0-1s精ZHUN定SHI控制。双功能共享一套真空系统与控制系统,无需换设备即可完成两种预处理工艺,大幅提升样品处理效率与兼容性。

二、应用场景

科研检测领域

适配扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)样品预处理,喷金适用于陶瓷、塑料等常规绝缘样品,喷碳针对生物组织、CHAO薄材料、冷冻样品等热敏/对膜厚敏感的样品,可避免电子积累与样品SUN伤,保障高倍镜下成像,是考古文物、生物样本微观分析的设备。

材料领域

用于高分子材料、纳米材料、碳纤维复合材料的表面改性,喷碳可制备高附着力碳膜,提升材料导电性与光热转化效率;喷金可制备贵金属电极,适配传感器、光电器件等需求,兼顾多材料、多场景实验需求。

生物YI LIAO领域

针对含水生物样品、YI用耗材进行预处理,喷碳膜层薄且生物相容性佳,可避免影响样品活性;喷金用于XUE糖仪试纸、生物传感器等耗材的电极制备,保障检测信号稳定传输,适配与。

高校教学领域

适配材料、电子、生物教学与科研,可直观展示溅射与热蒸发两种PVD技术原理,设备操作简单、体积小巧,能快速完成小批量样品实验,兼顾教学演示与科研创新需求,是复合型教学设备。

三、技术参数

参数类别 详细规格

整机结构 1、采用主机+副机分体式设计,

主机尺寸300mm×360mm×380mm、

副机300mm×360mm×140mm(W×D×H),

2、总重40Kg,副机承载热蒸发模块,主机集成溅射与真空系统,布局优化且占用空间0.22㎡,较同类复合设备体积缩减40%,适配实验室紧凑空间,一体化复合结构无通用替代方案。

样品室与双功能系统 1、样品室尺寸160mm×120mm(D×H),采用高透光硼硅酸盐玻璃,可实时观察双功能镀膜过程,玻璃经防溅射涂层处理,避免靶材/碳粉附着影响视野。

2、溅射面积Φ50mm(匹配小型样品),蒸碳面积140mm(适配大面积样品),双功能工位较单一功能设备兼容性提升一倍。

靶材与蒸发材料 1、标配Φ50mm×0.1mm高纯度铂(Pt)靶材(纯度99.99%),与溅射靶一体化设计,溅射均匀性偏差≤±3%;蒸发材料采用碳纤维绳,耐高温、蒸发速率稳定,相较于石墨蒸发源,碳膜纯度、附着力,且与热蒸发模块适配,通用材料无法达到同等蒸碳效果。

溅射与蒸碳控制参数 1、溅射参数:电压-1600DCV,

电流50mA,

电流稳定度±0.1mA,

标准溅射速率40nm/分钟,

0-999s定SHI器秒JI调控;

2、蒸碳参数:电压28V,

电流100A,

0-1s SHUN时加热控制,

可精ZHUN制备10-50nm CHAO薄碳膜。

3、双功能参数独立存储、联动控制,控制系统可避免参数干扰,通用设备无法实现双功能协同。

真空与气路系统 4、皮拉尼真空计,测量范围1×10⁻³-1×10³mbar,针对双功能场景校准,显示精度±0.01mbar,可稳定维持≤4×10⁻²mbar工作真空度;微型真空气阀可连接φ3mm软管,可连通惰性气体提高成膜质量,密封性经测试(漏率≤1×10⁻⁵mbar·L/s),保障双功能真空环境稳定性。

动力与冷却系统 1、标配2L/S机械泵,与双功能系统适配性JIA,运行噪音≤55dB,从大气抽至工作真空度需3-5分钟;

2、冷却系统标配风冷,效率较通用风冷提升25%。注:若单次溅射CHAO 3分钟或制备厚膜,建议加装原厂电冷装置,控温保护样品与设备。

靶体配置 1、标配二极直流溅射靶,满足常规喷金需求;

2、选配磁控靶(适配后溅射电流可达100mA),磁控靶采用磁路设计,溅射速率较二极靶提升30%。中西集团


离子溅射蒸碳仪库号:M413872


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