PECVD沉积系统

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2025-08-23

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产品简介

PECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)--等离子体增强化学的气相沉积PECVD：是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促使反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).

详细信息

PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) -- 等离子体增强化学的气相沉积

PECVD：是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促使反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).

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