V 系列 MFC 质量流量控制器

质量流量控制器 V 系列 MFC

• 设计dute：采用 “双阀 + 压降 + 位置传感” 的dute设计。

• 性能youyue：响应速度快，启停时间≤100ms；测量精度高，可达 ±0.5% S.P.；测量量程宽，在 2 - 100% F.S.；自诊断能力强，维护成本低。

应用场景：MFC 既可应用于半导体前段制程，如 ETCH、PVD、ALD、MOCVD、IMP 等设备中， 也在光伏能源、真空镀膜等领域有可观的市场。 MFC 可通过对气体流量的精准控制，有效地提供更高的良率。

该系列产品可广泛应用于半导体制造中的 etch（刻蚀）、CVD（化学气相沉积）、PVD（物理气相沉积）、ALD（原子层沉积）、MOCVD（金属有机化学气相沉积）等工艺设备中，也适用于如 MPCVD（微波等离子体化学气相沉积）、解热解冻干燥、石英提纯、医疗废弃物处理等领域。