$item.Name

首页>专用仪表>其它行业>原子层沉积系统

参考价:

  • 面议

PlasmaPro 100 PECVD

具体成交价以合同协议为准

2023-07-19上海
型号
该企业相似产品
原子力显微镜 扫描电容显微镜 冷却台 AFM探针
产品简介
设计PECVD工艺模式的目的是要在控制薄膜性能,如折射率、应力、电学特性和湿法化学刻蚀速率的前提下,生产均匀性好且沉积速率高的薄膜。 询价 增加到询价列表 在询价列表中查看此产品
详细信息
  • 高质量PECVD沉积氮化硅 和 二氧化硅 用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途
  • 用于高亮度LED 生产的硬掩模沉积和刻蚀
High rate SiO2 PECVD

High rate SiO2 PECVD

High rate SiO2 PECVD

High rate SiO2 PECVD

相关技术文章

同类产品推荐

提示

请选择您要拨打的电话:

温馨提示

该企业已关闭在线交流功能

请拨打电话联系