离子溅射仪集合了二极溅射模式之精华，并经重新定义设计，的电流与真空度记录曲线相结合可以进行常规的样品制样，还可以满足各种复杂特殊材料的样品制备要求，对于高分子薄膜，地质材料，半导体材料等各种样品的制备可以轻松应用。

稳定可靠的硬件，始终如一　　                　人性化操作界面，易懂易用

　良好的扩展功能，远瞩　　                　低使用成本设计，经济实用　

溅射系统

*的高压直流溅射/磁控低压溅射              

高精密加工的金属溅射靶头                         

长寿命额定功率的直流溅射电源

高精度的真空测量系统

高性能的真空控制系统

可程序化设定的溅射周期

离子溅射仪是制备SEM样品和电极表面涂层广泛使用的一种方法，具有快捷、高效、无污染和大面积制备等优点。Microhezao离子溅射仪将成为大部分的物理或材料实验室样品制备的一部分。

　　          外形尺寸： 424× 290×2 65 (mm）     工作电压： 200-240VAC 50H z

　　　　　溅射电压： DC2400V                           控制模式： 微处理器控制

　　　　　功率： 500W                                 溅射电流： ≤30 mA

　　　　　溅射时间： ≤600s                                极限真空 ： 0.1Pa

　　　　　工作真空： ≤30Pa                               膜层厚度： 内置膜厚估算（金靶）

　　　　　真空测量： 电阻规   　　　　    　　 　真空 速 率： ＜2L /s

电源和环境要求

220V±10%，50/60Hz，

功率4KVA单独地线＜30Ω（干燥地区＜10Ω）

温度10-30℃（每小时变化＜5℃）
湿度 80%以下