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岛津KRATOS高性能成像X射线光电子能谱仪

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2022-03-15
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产品简介
岛津KRATOS高性能成像X射线光电子能谱仪AXISSUPRA*X射技光电子能酒悦作为客种材料的化学状态毋析慢器,可以难确地确走材料泰言元囊的化学状态
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岛津KRATOS高性能成像X射线光电子能谱仪


岛津KRATOS高性能成像X射线光电子能谱仪 AXIS SUPRA*

X射技光电子能酒悦作为客种材料的化学状态毋析慢器,可以难确地确走材料泰言元囊的化学状态。被广泛应用于各种低婚新材料、姚米材料和表面科学的研究中。

AXI5 SUFRA屋岛津Kra的新研发出的一款高湍X射线光电子能蘧愎,兼备高分腩茱谱和快进甲行霞像动能,具备高"量分忧,高灵都度,高空间劳精的特点。

-杰出的薪电中和技术轻粒分析不同类型样品

-高功丰文射版源保证低含量元素测定

–双届能量分析圈喁保高某集效率和瞌像空间分热车·多模式离子添实理从超薄到超厚的分粝

–丰畜的灵活性可以拓医多种酎忡和表面分断技术

主要用途

XPS:固体样品的表面组成分析,化学状态分析,取样讯息深度为~10nm以内. 功能包括:

1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯。

2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析(角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式)

3. 线扫描或面扫描以得到线或面上的元素或化学态分布。

4. 成像功能。

5. 可进行样品的原位处理 AES:1.可进行样品表面的微区选点分析(包括点分析,线分析和面分析) 2.可进行深度分析适合: 纳米薄膜材料,微电子材料,催化剂,摩擦化学,高分子材料的表面和界面研究

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