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美国 KRI 射频离子源 RFICP 140 等离子清洗器

具体成交价以合同协议为准

2022-10-17上海
型号
参数
品牌:其他品牌 产地:进口 加工定制:是
上海伯东企业有限公司

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产品简介
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 离子束可聚焦, 平行, 散射.
离子束流: >600 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000.
采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求.
详细信息

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 离子束可聚焦, 平行, 散射.

离子束流: >600 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 

采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求.

离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.

非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀工艺.

 

伯东 KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:

型号

RFICP 140

Discharge

RFICP 射频

离子束流

>600 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

14 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射

流量

5-30 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

24.6 cm

直径

24.6 cm

中和器

LFN 2000

 

伯东KRI 考夫曼离子源 RFICP 140 应用领域:

1.预清洗

2.表面改性

3.辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,

4.溅镀和蒸发镀膜 PC

5.离子溅射沉积和多层结构 IBSD

6.离子蚀刻 IBE

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产品参数

品牌 其他品牌
产地 进口
加工定制
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