高等级钻石生长的工艺是采用化学气相沉积（CVD）和微波等离子体CVD（MPCVD）技术，另外CVD和MPCVD工艺还可用于在钻石以外的基材上进行钻石沉积，这为许多行业带来了技术上的进步，如光学、计算机科学和工具生产。
在采用CVD和MPCVD工艺进行钻石生长过程中，需要严格调节和控制CVD工艺的温度、真空压力和气体成分，这三个变量中的任何一个变化或波动都会影响钻石的生长速度、纯度和颜色。这三个变量在实际工艺中分别代表了温度、真空压力和工作气体的质量流量，即在CVD工艺中一般是在进气口处采用气体质量流量控制器控制氢气和甲烷以达到设定的混合气体成分，通过温度传感器和加热装置来调节和控制工作腔室内的温度，最后在出气口处通过真空计和电动阀门来调节和控制工作腔室内的真空压力。
针对以上气体质量流量的控制环节，格里尔斯GRYLLS开发了CVD（MPCVD)金刚石行业专用特气气路盘，该产品以隔膜阀，单向阀，EP级弯头，微米级过滤器，质量流量控制器MFC等零部件实现对多种工艺气体的精确流量控制。
经过多年研发和经验的沉积，格里尔斯GRYLLS质量流量计的气路盘，具有高密封性，高精度，集成度高等优点，产品成熟稳定已经在多个CVD(MPCVD）生产企业得到应用，为用户减少了研发、组装、验证时间，大大降低了用户的总体生产成本。
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