一：在锅炉水的治理过程中，对硅的参数要求主要是针对锅炉及节能方面。
硅是造成锅炉及整个系统结垢的主要原因之一，结垢机理如下:
H2SiO3 ---> H++HSiO3-
MgOH++HSiO3----> MgSiO3+H2O
造成结垢的主要原因是:给水中铁，铝，硅的化合物含量高，形成硅酸铁等垢。
NaSiO3+Fe3O4--> Na2Fe3O4.SiO2
1.2：硅酸盐容易结垢的地方主要为:锅炉水冷壁、蒸发器等热负荷较高的部位。热负荷较高或水循环不良的炉管，火侧的结垢比背火侧严重，结垢后对锅炉拱能系统造成的影响有:造成能源的浪费，容易形成垢下腐蚀，甚至爆管等安全现象。
防止的方法:降低给水中硅，铝和其它氧化物含量;提高炉水pH，减小硅酸的溶解携带;定期检测硅酸根含量
1.3：硅酸根分析仪是一种其干微外理器的比色分析仪，可以依次对6个的独立流路进行采样分析测量，被分析的样水在一个固定的环路内
环流，并能使样水得到快速更新，流量的调节借助干一个阀门来实现。在分析的开始，样水借助干一个电磁阀被引入测量槽内，用微
脉冲泵依次加入各种试剂，在反应结束时执行光度计测量，进而转换成硅酸根离子的浓度输出。
二：随着电厂的规定标准和除盐净水工程要求的提高，对硅酸根监测的时效性和准确性也大幅提高。为此，沃懋推出的T6060型硅酸根分析仪(Silica Analyzer)，采用鼓气式液压加药方式，冷光源分光测量，无死体积反应池，保证了仪表测量的准确性、可靠性。仪表外型结构如图所示。
2.1：仪器特点：
Ø 采用鼓气式液压加药方式，可实现精准计量；
Ø 冷光源分光测量，延长了光源的使用寿命；
Ø 自动调节光源的光强，光源衰减后也可保证仪表测量的准确度；
Ø 自动控制反应温度，恒温测量和校准；
Ø 大容量的存储器，可保存6年测量数据；
Ø 真彩色液晶屏，操作、显示更加直观；
Ø 6路隔离的电流输出，可配置到任意通道、任意量程或PID；
Ø 6路继电器输出，可配置为超限报警、断样报警或系统故障报警；
Ø RS485接口，可配置9600bps到57.6kbps，实现远程数据监测；
Ø 可查询任意时间段内的曲线和测量报警。
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