WEH ®涂装工艺介绍
“WEH ®涂装工艺”是一种纳米涂层工艺，成功应用于薄膜沉积和干刻蚀制程，是一种在真空环境下进行的高科技表面处理技术。该技术可以在材料表面上形成一层均匀、致密、具有特殊功能的薄膜，减少工艺残留物的粘附，提高材料的抗腐蚀性和使用寿命。
在电子领域，WEH ®真空涂层技术可以用于电子元器件、显示器、半导体、太阳能电池等产品的制造过程中，应用范围非常广泛。
WEH ®真空涂层介绍/ABOUT WEH®
常用于前级管道以减少副产品粘附的3M3700 涂层已于2021年停止生产。与此同时，WEH®涂层经过层层检验进入市场，它有许多优异的特性，如高硬度、高接触角、抗腐蚀等。目前WEH ® 已成功应用于某半导体厂商的排气系统，如厂区的气体管线、干泵和涡轮泵等，它有效帮助企业缓解了真空管道和设备内的粉尘颗粒堵塞问题。
1真空零件涂层的分类
陶瓷类 | 环氧类 | |
物性 | 薄，硬 | 厚，软 |
颜色 | 透明无色 | 黑色、绿色、白色 |
产品例 | WEH ®, 3M 3700 | Epoxy-base Teflon |
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WEH ®涂层的性质
经过日扬科技一系列的产品测试和市场实例检验，WEH ®涂层较之其他的同类产品，有着良好的疏水性、耐温性、接着性和抗腐蚀性，同时，其高硬度和低粗糙度也符合真空零件纳米涂层的优异特性。在薄膜沉积系统和干刻蚀制程中，该涂层表现效果良好。
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WEH ®涂层的作用
WEH ®涂层：有效延长使用寿命和零件保护
WEH ®涂层有效保护了部分制程特别是例如AI-Pad、ALD和MOCVD制程中所需的设备与管道，在真空环境下的的薄膜沉积与干刻蚀系统中，设备与零件有着非常高的精度和技术要求，这意味着它们的维护周期对产线稼动率和生产效益的影响非常大。
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WEH ®涂层的COA认证
WEH ®认证（Certified of Analysis,COA）
项目 | 规格 |
疏水性 | 油墨在表面无法书写 |
厚度 | 0.5~ 5um |
粗糙度 | ≦ 1 um |
断裂强度 | ≦ 6.0×10-9 mbarℓ/sec |
现场测试 Field Test at 5B
—进行涂装WEH ® 处理的金属部件—
从图中可以看出，在金属内壁进行WEH ®涂装处理后， 使得背压大幅降低，长时间不衰减。
进行中的测试案例 5
划格测试Cross-Cut Test
划格测试采用的是3M 600 Scotch type，在切口边缘分离出小的WEH ®薄片，不大于 5% 的横切区域，表示符合4B ~ 5B的测试标准。
接触角测试Contact Angle Test
WEH ®具有106.15度的接触角，表示材料具有疏水性，不易产生残留物粘附。
腐蚀性测试 Corrosion Test
腐蚀测试步骤：
1.滴上数滴盐酸 HCl 在测试样品表面。
2.等待24 hr，测量腐蚀面积。
3.测试结果（腐蚀面积）：
WEH ® < 3M3700 < Non Coating
表面粗糙度测试Roughness Variation
表面粗糙度对沉积的影响非常大，随时间的推移，零件的内表面容易造成残留物沉积，进而降低气体流速，影响反应速率。WEH ®涂层经试验测出对降低材料表面粗糙度有很大作用。
硬度测试Hardness Test
1.硬度测试根据ASTM D3363-22通过铅笔测试进行
2.环境温度:(23 +/- 2)℃
3.湿度: (50 +/- 5)%
除去以上检验之外，WEH ®还通过了沉积物对比、电子能谱分析和等离子蚀刻测试，其蚀刻速率是氧化物的1/50，蚀刻速率小于0.5 nm/min，这意味着WEH®可以保护部件免受离子轰击的损坏。
好的证明是市场的证明，目前WEH ® 已成功应用于某半导体厂商的排气系统，它有效地缓解了电子器件制程中的设备粉尘颗粒阻塞问题。其优异的特性帮助客户拉长了设备维护周期，节省了大量维护成本。
日扬一直秉承着“成为客户有价值的伙伴”的企业使命，帮助客户发现问题、分析问题、解决问题。如果您需要更多关于WEH®的产品咨询，请联系我们。1 3 5 0 2 8 6 1 4 1 5
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