析谱 品牌
生产厂家厂商性质
所在地
| 光栅刻线密度 | 1800条/mm | 1800条/mm |
| 波长重复性 | ±0.1nm | ±0.1nm |
| 波长示值误差 | 全波段±0.2nm | 全波段±0.2nm |
| 光学系统 | Czerny-Turner系统，一体化的光学平台，全封闭光学系统 | Czerny-Turner系统，一体化的光学平台，全封闭光学系统 |
| 解析度 | 光谱频宽0.2nm能分开锰双线（279.5和279.8）且谷峰能量比＜30% | 光谱频宽0.2nm能分开锰双线（279.5和279.8）且谷峰能量比＜20% |
| 光谱狭缝 | （4档自动切换）0.1nm,0.2nm,0.4nm,1.0 nm | （6档自动切换）0.1nm,0.2nm,0.4nm,0.7 nm，1.0 nm，2.0nm |
| 静态基线漂移 | ≤0.004ABS/30min(Cu) | ≤0.002ABS/30min(Cu) |
| 背景校正技术 | D2背景扣除方式(背景信号1ABS时，扣除背景能力≥50倍) | D2背景扣除方式(背景信号1ABS时，扣除背景能力≥50倍) |
| 机体设计 | 悬浮式内外光路一体化结构 | 悬浮式内外光路一体化结构 |
| 灯座 | 4~6灯灯塔（4灯以上同时预热） | 6~8灯灯塔（6灯以上同时预热） |
| 燃烧头 | 空气-乙炔火焰燃烧头(100mm,可选配笑气功能50mm) | 空气-乙炔火焰燃烧头（100mm） |
| 雾化器 | 高效玻璃雾化器 | 高效玻璃雾化器 |
| 点火动态基线漂移 | ≤0.004ABS/30min(Cu) | ≤0.003ABS/30min(Cu) |
| 对铜的特征浓度 | ≤0.025μg/ml/1%(Cu,吸光度>0.8ABS) | ≤0.02μg/ml/1%(Cu,吸光度>0.8ABS) |
| 检出限 | Cu≤0.006ug/ml | Cu≤0.004ug/ml |
| 对铜的测量重复性 | ≤0.5% | ≤0.5% |
| 气体流量控制 | 手动 | 自动 |
| 点火方式 | 仪器操作面板按钮 | 电脑全控制 |
| 安全保护 | 压力不足、电源中断、异常熄火、燃烧头不匹配时自动切断燃气 | 压力不足、电源中断、异常熄火、燃烧头不匹配时自动切断燃气 |
| 背景扣除方式 | 自吸收和氘灯两种扣背景方式，可校正1A背景。背景信号1ABS时，扣除背景能力≥50倍。 | 自吸收和氘灯两种扣背景方式，可校正1A背景。背景信号1ABS时，扣除背景能力≥50倍 |
| 尺寸 | 700mm×550mm×530mm | 700mm×550mm×530mm |
| 项目 | 参数 |
| 石墨炉可视系统 | 必须配置石墨炉可视系统，以便直观地监视石墨管内部干燥、灰化、烧残过程中的样液的动态演变，方便地观察进样器毛细进样针进入石墨管的部位和深度，及平台插入在石墨管中的位置，确保分析精度与石墨管的寿命，并且是*美的培训工具。 |
| 石墨炉保护 | 石墨炉意外瞬间断裂立即停止加热并提示报警 |
| 石墨炉加热方式 | 纵向 |
| 内气流量 | 自动调节 |
| 石墨炉工作温度 | 常温~3000℃ |
| 最大升温速度 | ≥3000℃/s |
| 特征量 | Cd≤0.4×10-12g；Cu≤10×10-12g |
| 测量重复性 | Cd≤2%；Cu≤2% |
| 加热控温方式 | 干燥灰化阶段功率控制，原子化阶段光控最大功率升温控制 |
| 操作软件 | windows操作软件,自带审计追踪功能 |
| 功能拓展 | 可配氢化物发生器进行原吸分析 |
| 尺寸 | 280mm×550mm×450mm |
| 自动进样系统 | ||||
| 自动进样器 | 样品数 | 85位 | 进样体积 | 1μL-50μL |
| 杯材质 | 聚丙烯 | 进样精度 | 当体积≥10μL,优于1% | |
| 基体改进剂数目 | 5种 | 最小增量 | 1μL | |
| 标准杯容积 | 2mL样品,0mL试剂 | |||
