四氟化硅传感器
四氟化硅传感器

四氟化硅传感器

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-09-04 15:41:00
521
属性:
产地:国产;加工定制:是;绕组形式:其他;外形结构:立式;检测原理:NDIR;检测气体:SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2;量程:1~264ppm(0~200mTorr);
>
产品属性
产地
国产
加工定制
绕组形式
其他
外形结构
立式
检测原理
NDIR
检测气体
SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2
量程
1~264ppm(0~200mTorr)
关闭
四方光电(武汉)仪器有限公司

四方光电(武汉)仪器有限公司

高级会员4
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

四氟化硅传感器是由四方光电自主研发的高性能气体传感器,产品基于非分光红外技术(NDIR),能够精确测量半导体等应用中产生的SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体,兼容机台内常见预留尺寸、法兰和通讯协议,适合半导体行业化学沉积设备、原子层沉积设备腔室的清洁终点监测。

详细介绍

四氟化硅传感器四氟化硅传感器是由四方光电自主研发的高性能气体传感器,产品基于非分光红外技术(NDIR),能够精确测量半导体等应用中产生的SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体,兼容机台内常见预留尺寸、法兰和通讯协议,适合半导体行业化学沉积设备、原子层沉积设备腔室的清洁终点监测。

四氟化硅传感器四氟化硅传感器产品特性

使用NDIR技术,多气体监测支持(SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体)

响应时间快,高灵敏度

无耗材

模拟/数字通信

模块化设计,便于集成


四氟化硅传感器技术参数

检测原理NDIR
检测气体SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2
量程1~264ppm(0~200mTorr)
重复性±0.5%
线性±1%F.S.
检测限1ppm


上一篇:四方光电呼气末二氧化碳传感器在临床监测中的关键作用 下一篇:四方光电激光扬尘传感器助力打赢蓝天保卫战
热线电话 在线询价
提示

请选择您要拨打的电话: