Pioneer 120 Advanced PLD System特点

独立的交钥匙PLD系统。

外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。

利用原位RHEED诊断技术沉积纳米级薄膜。

氧化膜沉积的氧相容性。

升级:负载锁定，激光加热器，RF/DC溅射，组合PLD与超高真空溅踱系统集成;与XPS /ARPES超高真空集群工具集成。

Pioneer 120 Advanced PLD System 是一个用于制备高质量的外延薄膜独立的系统、多层异质结构和各种材料的超晶格。这个PLD系统和the Pioneer 120 PLD System 的主要区别是衬底加热阶段。先锋120采用导电加热阶段，而Pioneer 120 Advanced PLD System 采用辐射加热阶段。加热器可兼容1大气压(760托)的氧气，这是一特性用于制备外延氧化膜，需要(i)沉积在氧气中，(ii)沉积后退火在氧气中，以及在接近1大气压的氧气中冷却。由于基底不与加热器直接连接，可以连续旋转360度。衬底也可以负载锁定。