MAB超大太赫兹面源黑体

典型的面源黑体不能用于模拟在THz带（0.1mm 至1mm）和亚THz带（波长从1mm至10mm）的黑体 目标，因为这样的黑体的发射率开始在约0.1mm处 下降和波长超过1mm时会变得非常低 。 原因是在 典型的红外黑体中使用的高发射率涂料对于THz光 辐射变得部分半透明，特别是在约0.5mm以上的较 长波长。

由于以下原因，THz的面源黑体的设计是一个技 术挑战：a）需要THz /短微波光谱带中的高吸收率 涂层的发射器以确保高发射率，b）对THz/ 微波成 像仪需要大面源黑体且低分辨率; c）需要高的温度 均匀性，时间稳定性和精度以使得能够精确地校准 THz /微波传感器。

MAB黑体是有不同发射体面积，不同温度范围 的一系列不同型号，并且针对不同光谱带而优化。 MAB黑体的特征在于良好的温度分辨率，时间稳定 性，温度均匀性，以及温度不确定性和高发射率。 所有这些特性使得MAB黑体成为用于测试/校准 Thz /亚太赫兹成像仪或这种辐射的其它仪表的系统 中的黑体的理想选择。

产品特点:

• 覆盖THz和亚THz频带的宽光谱范围

• 大面积达到 1mx1m

• 高发射率在Thz /亚太赫兹

• 在大黑体面积上具有良好的热均匀性

• 温度分辨率1 mK和温度稳定性10mK

• 高速，易于从PC控制

• 紧凑，可靠的设计（黑体与控制器集成）

MAB超大太赫兹面源黑体技术参数