在红外光学系统中, 由于常用的锗硅等材料折射率高, 反射损失大, 因此对红外光学元件表面镀增透膜是一项常规性的工作. 通常使用环境恶劣, 对元件除要求有较高的光学性能外, 还希望具有较好的耐环境的能力, 以适应环境变化, 保持系统的光机性能稳定.

传统蒸发技术的缺陷:

在传统的蒸发技术中, 凝聚粒子的能力低, 热蒸发薄膜的堆积密度较低, 具有明显的柱状结构, 造成膜本身不稳定, 光机性能蜕变、降低.

离子辅助沉积技术, 能够改善薄膜的性能, 高的堆积密度, 改善了膜的光机性能.

通常的离子束源出口半径小, 离子束流有方向性且大小有限,使得达到被轰击表面的离子束流均匀性差, 轰击角不一致, 导致薄膜的均匀性差, 可利用的沉积面积有限, 甚至在有些情形, 沉积的薄膜层仅在沉积过程中受到不连续的辐照, 并非*的离子辅助沉积薄膜.

美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 辅助沉积高性能红外增透膜优势:

伯东美国 KRI 离子源克服了通常的离子束辅助镀膜技术的缺陷, 成为一种实用的离子辅助镀膜手段, 已经广泛运用于大型光学镀膜系统上.

为了获得大面积均匀、性能优异的红外光学薄膜, 增强其耐久性, 使膜层的机械性的红外增透膜, 某国内光学薄膜制造商采用伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 用于辅助镀膜. 

美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 产品特点：

1. 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.

2. 离子束流: >650 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量 (Typical flow): 2-30 sccm.

3. 加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.

4. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.

5. 无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计.

为了获得更好的膜层, 离子源辅助镀膜需要在真空环境下进行, 因此镀膜腔体需要将真空度抽至8x10-4 Pa, 该光学薄膜制造商采用普发 Pfeiffer Hipace 80 对镀膜腔体进行抽真空.

涡轮分子泵  HiPace 80 技术参数

美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 辅助沉积高性能红外增透膜实际运用结果:

用伯东美国 KRI 离子源辅助沉积的红外增透膜, 其光学性能和机械性能均较优异, 增强其耐久性, *一般红外光学系统的要求, 且可以制备大面积均匀的膜层, 达到共赢生产规模.

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口品牌的代理商.