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真空充氮烤箱的参数

时间:2024-10-23      阅读:72

一、用途简介:

    真空充氮烤箱适用于光电、硅晶片、电子芯片、电池、线路板、电子电器、金属加工、制药等各行业作无氧真空快速干燥、退火等高温处理,可充惰性气体防止产品氧化。深受生产线、实验室及科研单位喜爱。



二、主要技术指标:

规格型号: HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000

内箱尺寸(cm) 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100

外形尺寸(cm): 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188

总功率: 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW

使用电源: AC 单相 三线 220V 50HZ AC 三相 五线 380V 50HZ

温度偏差: ±3% ±5% ±8%

真空泵: 4升 8升

温度范围(选择)

 RT+10℃~200

□ RT+10℃~250℃

□ RT+20℃~300℃

真空度范围: 0-100KPa

控制方式: 按键式控制或PLC触摸屏控制

结构: 一体式结构(内置真空泵)或分体式(外置真空泵)

内箱材质: SUS304#不锈钢

外箱材质: SECC钢板高级烤漆处理

充氮气装置: 1)氮气压力范围:34Kg左右;

2)流量计:量程为10L/min-100Lmin

3)气管配置:∮8mm气管快插口;

4)充氮控制方式:采用时间自动控制或手动控制;

5)排气阀:充氮气的同时打开排气阀,防止箱内高压;

6)氮气:氮气源用户自备。


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