K550X具有旋转样品台，它也可倾斜，非常适合各种样品使用。预选择参数及全自动控制使得精确镀层及重复厚度沉积更为方便。

磁电管靶使用低电压，可提高效率，K550X能得到非常精细的颗粒，由于是冷溅射，所以无需冷却靶面或样品台。

腔室直径为165 mm(6英寸)，非常方便装载及移走样品。

仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶（或用户选择），提供的性能价格比。可选靶材包括金/钯，铂/钯和铂。

功能集中在仪器面板上及即插即用电子学设计，zui大的“up-time”，这些用户友好设计满足了不同学科的用户需求。

溅射参数可被预先设置，包括气体放气针阀，此阀为电磁阀，一旦设置，它就不需要再调节。溅射头互锁，系统可容易选配K250镀碳附件。本仪器为全自动操作，可控制独立的真空泵。

技术规格
仪器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H   重量:18公斤
工作腔室:硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H
安全钟罩:聚碳酸酯
靶：60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶面)
样品台：直径为60 mm，靶面距离40mm,具有倾斜
        装置的旋转台
真空范围:ATM-1x10^-2 mbar
溅射电流:0-50mA
沉积速率:0-25nm/分
溅射定时: 0-4 分钟
预设置针阀:控制氩
电源:230 伏 50Hz
(10 amp max. including Pump)