产品概述

反射光谱干涉法是一种非接触式、无损的、快速的光学薄膜厚度测量技术。

测量范围: 1 nm - 1 mm

波长范围: 200 nm -8000 nm

光斑尺寸:2mum -3 um

产品特点：

a. 高的测量精度：0.01nm或0.01%

b. 准确度：1nm或0.2%

c. 稳定性：0.02nm或0.02%

d. 强大的软件材料库，包含500多种材料的光学常数

e. 通过Modbus TCP或OPC协议，与其他设备联用

适用于实时在线测量，多层测量，非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如：氧化物，氮化物，光刻胶，高分子聚合物，半导体(硅，单晶硅，多晶硅)，半导体化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂层(碳化硅，类金刚石炭)，聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

标准配置中包含：

1. 主机(光谱仪，光源，电线)

2. 反射光纤

3. 样品台及光纤适配器

4. TFCompanion软件

5. 校准套装

6. 测试样品，200nm晶圆

多种型号可选，每个型号对应不同的测量范围：

测量n和k值，其厚度范围需在25纳米和5微米之间

广泛的应用于各种工业生产及工艺监控中：

半导体晶圆，薄膜太阳能电池，液晶平板，触摸屛，光学镀膜，聚合物薄膜等

半导体制造：· 光刻胶          · 氧化物        · 氮化物

光学镀膜：· 硬涂层          · 抗反射涂层         · 滤波片

生物医学：· 聚对二甲苯         · 生物膜厚度         · 硝化纤维