CCI MP:

单一测量模式，新一代白光干涉仪

光学干涉测量技术

• 非压电陶瓷闭环Z轴扫描控制，2.2毫米扫描范围

• 改进后的拼接功能，使Z轴量程可达100毫米

• 1024 x 1024像素阵列可获得高分辨率的大视场

• 增强了角度灵敏度，能够得到更好的测量数据

从实质上消除测量的不确定性

• RMS重复性小于0.2埃，台阶高度重复性小于0.1%

• 整个测量量程有着0.1埃分辨率

• FEA优化机械设计，具备出色的R&R能力

• 采用ISO标准的校准，确保结果的可信度

追求长期成本效益的坚固耐用设计

• 非压电Z轴扫描控制可省去昂贵的维修费用

• 自动表面检测可防止撞坏镜头

• 内置自我诊断工具可快速、轻松地排除故障

• 操作的简便性可减少使用者出错可能

64位控制和分析软件

• 包括中文、日文在内的多语种支持

• 兼容大多数计算机平台，有利于开展合作性研究项目

• 提供多种新工具，包括3D表面随时间演变过程中进行4D分析

• 根据多批次测量数据自动生成报告

了解表面微观结构

具有大视场和高分辨率，可观察复杂的表面结构。

辨识抛光缺陷

CCI为我们团队在精密工程和表面特征的研究领域始终保持地位提供了极大的帮助。

Dr S.V Rama Gopal

科学家, Aspherics Group, CSIO, 印度

通过高分辨率的三维图像能够简单快速地识别如彗尾等抛光缺陷。

高性能的CCI MP是科研和制造的测量手段。

大量程、高分辨率、高准确性和高可靠性–取得成功的四大要素

无论哪种零件、无论多快的分析速度，CCI MP均可保证三维面形测量结果的准确性。配备1/10埃垂直分辨率的一百万像素高性能摄像头，可对极为粗糙到非常光滑的所有表面进行细致全面的分析。

功能丰富–可随时用于生产运营或研究项目

时刻与研发人员和科学家的专业技术同步发展，CCI MP能够满足包括太阳能、光学和医疗器械等领域提出的的测量要求。高级数据拼接功能拓展了仪器的可测量范围。

使用的简便性可减少操作员的培训成本

即便不常使用，也无需对操作员重新进行培训和指导。CCI MP的设计便于科学家、学生、开发人员或生产检查人员使用。CCI MP的创新功能如自动量程和自动条纹寻找等，可以简化样品的调整过程。为用户节省时间、减少错误并快速得出所需结果。

完整的平台简化ISO-17025的集成

不需要增加程序的复杂性就可使用户的分析能力得到极大提高。也不需要测量模式间进行复杂的切换，以及测量过程中校准镜头，就可以测量多种多样零件和表面。标准化的模式、程序和报告功能，使CCI MP可轻松集成到用户的质量管理系统。