2023年5 月 26 日，莱伯泰科受电子化工新材料产业联盟的邀请，出席江苏常州“2023•光刻胶及聚酰亚胺技术和产业应用研讨会”，大会上莱伯泰科带来半导体领域解决方案，并与行业内各位专家进行热切讨论。

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光刻是半导体制造微图形工艺的核心，光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的 35%。目前国内光刻胶产业仍处于发展起步阶段，半导体光刻胶市场仍被日本和美国公司垄断，国产替代率较低。

2021年5月20日，莱伯泰科重磅发布LabMS 3000电感耦合等离子体质谱仪，强势进军半导体行业。2023年3月10日，莱伯泰科隆重推出针对于半导体行业研发生产的LabMS 5000 ICP-MS/MS电感耦合等离子体质谱，致力于为半导体行业用户提供更加精准、高效的解决方案。

电感耦合等离子体质谱仪LabMS 3000 ICP-MS

LabMS 5000 电感耦合等离子体串联质谱仪（ICP-MS/MS)

莱伯泰科作为主要国产仪器厂商之一，在分析仪器领域已深耕20年，始终坚守在推动我国科学仪器发展的前线。近些年莱伯泰科在质谱创新之路的进展加速着国产替代的进程，以实际行动助力我国半导体产业健康稳步发展，实现高水平科技自立自强。

莱伯泰科展台