OE750全谱火花直读光谱仪是一款突破性的新型OES金属分析仪。其涵盖了金属元素的全部光谱，并具有同类产品中*低的检出限。
由于行业法规日益严格，供应链变得复杂以及更多地使用废料作为基础材料，因此铸造厂和金属制造商必须将杂质和痕量元素控制在*低ppm范围内。在过去，这上等别的OES对许多企业而言是遥不可及。日立分析仪器推出的新型OE750可改变这一现状。
这款直读光谱仪可用于分析所有主要合金元素，并识别金属中含量极低的杂质、痕量元素和处理元素，如钢中的氮。 OE750的测量速度快、可靠性高且运营成本低，可进行高性价比的日常分析和**质量控制，其性能可与更大、更贵的光谱仪媲美。
OE750全谱火花直读光谱仪的新光学系统设计的一个优点是启动时间短。由于光学系统体积小，不到一小时的时间便可启用仪器。可在需要检查99%来料的情况下，助力实现高批量生产。
除了新的光学设计之外，OE750全谱火花直读光谱仪还有其他支持大批量金属分析的技术特性。它有一个新的密封火花台，具有优化层流设计，可降低氩气消耗，降低污染的可能性，并大大降低维护要求。带有低压氩气吹扫的中压系统可减少泵的使用。这可将泵的功耗降低90%，并避免油气污染，从而增加可靠性和仪器的正常运行时间。这使得OE750全谱火花直读光谱仪具有高可靠性和低运行成本。
除**性硬件技术外，新型OE750还包括可提高性能的软件。例如，它包括日立牌号数据库，该数据库包含来自69个国家的339,000多种材料的1,200多万条记录和标准，减少了人工查阅牌号目录的时间和潜在错误。作为选择方案，它配有SPC/LIMS包，能够轻松有效监控该仪器所涉过程以及由其控制的过程。这是满足IATF 16949等标准要求的理想工具。
光谱仪光学系统
采用帕邢-龙格装置多块CMOS光学系统
罗兰圆直径：400 mm
波长范围：119 – 766nm.
像素分辨率：7 pm
外部入射窗口，方便清洗及更换
实时波长校准功能保证了优异的长期稳定性。
保证仪器能够在任何恶劣的环境中持续正常工作，从实验室到炉前现场，甚至更严酷的环境
火花源
全新的数字光源，电脑调节*优的火花激发参数，帮助降低元素检出限
高能预燃技术 (HEPS)
计算机调节参数
频率80 – 1000 Hz
电压250– 500 V
氩气冲洗火花台
开放式样品台设计
低氩气消耗的“喷射电极”技术
通用可调样品适配器
特殊样品可更换相应火花台
空气冷却系统
数据输出
可接驳各种标准打印设备
数据存储在移动存储器上或以Excel、PDF形式输出
网络连接通过串口或USB接口
Software软件
Windows 10操作系统,
SpArcfire 光谱仪SpArcfire操作软件
可选数据维护程序
操作软件分析功能
控样校正
局或局部标准化
校准和分析时再现性检查
校准或监控样品的自动显示
自动标识超出曲线范围的结果
用户自定义样品码输入
自动或用户自定义分析结果的打印、存储及输出
自定义牌号数据库
牌号搜索和牌号鉴定功能
自定义公式输入
分析结果可显示优良强度、相对强度、标准化强度和校正强度等多种形式
分析结果可用浓度、通道浓度表示
单点标或多点（高中低）标准化
干扰校正
基体校正
谱线自动切换
任意激发次数测量结果的平均值、标准偏差及相对标准偏差等计算
硬件故障自动诊断
光谱图形显示
谱图信息存储
