采用真空沉积镀膜技术生成的消光涂层，具有*的比表面积，相对于传统的消光材料和技术，有许多*的技术特点：

• *的比表面积结合极薄的微米级涂层厚度，
• 通过表面形貌控制，包括形状和结构，用于控制物理、光学、和辐射特性
• 不同于一般的蚀刻技术，这种表面涂布技术有利于保持基板的厚度和机械强度
• 工作温度: -269°C to +350°C
• 非常容易结合在金属和非金属基底上
• 优异的机械强度和耐磨损性
• 低透气性
• 生态清洁 - 无腐蚀性化学物质的使用
  无机和*无毒
   绿色清洁 - 无腐蚀性化学物质的使用
• 无机和*无毒

正式由于以上特定，该技术涂层具有广泛的用途，包括高性能光学元件，太阳能，电容器，电子产品外壳和散热片等。

通过工艺条件和原料的不同，提供如下几种真空沉积的消光涂层：

由于真空沉积涂抹技术需要设备和专业的技术人员，为了满足国内客户的需求，我们委托国外厂家将该涂层沉积在铝箔上，并采用不干胶形式，方便运输和使用。可提供如下形式的产品：

主要特点和优势

• 轻薄、柔软，保形性好
• 容易安装、使用
• 适合塑料、金属和玻璃部件
• 高发射率、低反射率
• 极低的透气性Extremely low outgassing, CVCM-0.00
• 防尘
• 兼容低温、真空、洁净室环境
• 涂层厚度 ~ 5 microns
• 良好的生物相容特性
• 无机物，安全

典型应用

• 杂散光抑制 EUV - VIS - FIR
• 光机系统
• 红外系统、黑体
• 显示器和投影
• 光学挡板、光阑