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光干涉式甲烷测定器检定装置 型号：PRS-2006
光干涉式甲烷测定器检定装置
1、技术指标：
（1）甲烷浓度测量范围：
（0～10）%CH4 准确度：±0.01%CH4
（0～100）%CH4 准确度：±0. 1%CH4
（2）压力测量范围：
（0～7000）Pa 准确度：0.2%
（0～70）kPa 准确度：0.1%
（3）温度测量范围：
（0～50）℃ 准确度：±0.5℃
2、主要功能：
（1）表源一体化结构、液晶显示、同时显示压力、浓度、温度三种量值，温度可实时标定，压力值多点标定
（2）USB接口，与计算机连接可自动读数，生成原始记录和检定证书，可检索、查询和统计已捡仪器、数量、合格率、生成报表
（3）（0～10）%CH4和（0～100）%CH4量程自动切换
（4）有通气按键控制气阀，在0点与大气平衡
 | 产品名称：玻璃器皿清洗器 产品型号：TTL110 |
玻璃器皿清洗器 型号：TTL110
我公司根据实验室玻璃器皿的清洗规范以及手工清洗方法，开发生产了适合实验室清洗玻璃器皿的设备--玻璃器皿清洗器。很好的解决了手工刷洗玻璃器皿的弊端，提高了清洗效率、清洗的*性好、清洗洁净程度高。TTL-110玻璃器皿清洗器具有使用方便、操作简单的特点。
1 适合于实验室常用玻璃器皿以及聚四氟、塑料容器等
2 清洗方法：瓶口向下方式，有效的去除残留物
3 清洗方式：手动清洗，方便清洗过程的控制
4 清洗刷：根据不同形状的玻璃器皿更换清洗刷
5 洗涤液和冲洗管路*分离，避免残留污染
6 自来水冲洗和去离子水冲洗一次完成
7 清洗水源：自来水、蒸馏水或去离子水
1 毛刷在旋转的同时喷出洗涤液
2 清洗刷旋转速度：500转/分
3 洗涤液：循环使用
4 双桶清洗，使刷洗和冲洗分离
5 整体不锈钢材质，经久耐用
6 电源：AC220V 50Hz 110W
7 外形尺寸：620WX90DX10H
2 清洗刷旋转速度：500转/分
3 洗涤液：循环使用
4 双桶清洗，使刷洗和冲洗分离
5 整体不锈钢材质，经久耐用
6 电源：AC220V 50Hz 110W
7 外形尺寸：620WX90DX10H
 | 产品名称：净化型匀胶机 产品型号：CKF-411 |
净化型匀胶机 型号CKF-411
净化匀胶机是适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合半导体大型晶圆硅片,芯片,晶片,等各种胶体的工艺制版表面涂覆或光刻工艺匀胶。是集成电路及半导体件生产过程中涂复光致抗腐蚀剂的设备
设备中涂胶部分四个工位单片微型机控制四个工位同时工作或分别工作，即各工位的运转单独传动，转数单独调节及单独显示。
为保证在涂胶工艺中不飞片，设备中吸头和气泵中间有四个电磁阀，同时增加一个负压储气罐，保证了吸片牢固和可靠性。
设备中配有的空气净化装置。
主要技术指标：
匀胶工位：1个工位 或者 4个工位
匀胶时间：1-99秒
匀胶转数：500-8000转/分
净化效果：100级（美国联邦标准）
操作区风速：0.3-0.5米/秒(有效操作区气流状态：垂直层流()
于φ8mm-φ100mm晶体硅片及其它材料等匀胶
外形尺寸：650x750x1620mm
外体颜色：瓷白色
1．控制范围和精度：转速控制范围为：500-8000转，精度为±3%
2.时间控制范围为：1-99秒，精度为±5%
3．转速调整采用高精度D/A转换，具有128级的精度调谐。
4．转速查看智能化。（自动识别哪个电机开或关）自动转换到开启的电机上。可予先选定，也可在运行中随时查看任一电机的转速。
5．采用*的I2C总线技术和E2PRAM数字存储器，可预存10组工艺参数（匀胶机A型机可予存10个延时时间，40个电机转速参数。B型机可予存20个时间参数，80个转速参数；显影机可保存9个慢启动参数，30个时间，30个转速参数）。保存的参数掉电10年不丢失。调整后的参数自动保存，简化了操作。
6．具有全自动智能控制功能，当使用全自动方式时只需放好工件，然后按一下ATART（开始）键，吸盘自动打开，定时工作完成后延时6秒电机停稳后自动关闭吸盘，喇叭鸣三声，提示完成工作。大大的提高了工作效率。
7．定时的时间和转速的测量全部由软件控制，定时部分采用倒计时的方式显示，转速测量部分直接显示被测电机的每分钟转数。调整部分由软件和D/A转换器控制，去掉了原使用CMOS电路采用的拨盘开关和机械电位器的机械触点。在原基础上增加了全自动功能，减少了操作程序，避免了频繁的开关面板上的按键开关，大大的降低了按键开关因频繁使用而损坏。提高了整机的可靠性和使用寿命。调整，启动，切换，停止，并有提示音。
CODcr水质在线自动监测仪 型号：DH310C1 CODcr水质在线自动监测仪产品描述
技术指标
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