仪器特点
1、750mm焦距光栅设计，帕型-龙格装置，高真空，分辨率高、灵敏度高等特点；由于机刻光栅可以产生较高级次的光谱，所以选线更具灵活性，从而避免光谱干扰。
2、仪器结构设计合理，电子系统采用标准机笼，高集成化电路设计，故障率低。
3、分析速度快、重复性好、稳定性好。
4、采用高稳定的激发光源，激发频率在150—500Hz之间变化，分析不同的样品，可选择不同的激发参数，可达到*的分析效果。
5、采用高集成化的采集和控制系统，自动化程度高。
6、采用进口的光电倍增管，具有暗电流小、信噪比高、使用寿命长等特点。。
7、分析扫描过程可同时对所有元素进行扫描，扫描过程简单，可快速分析出每个元素相对于基体元素的偏差。
8、激发样品过程中，无需对激发台进行水冷却，可连续分析样品也能达到较好的数据。
9、测控系统采用单板机测量与控制，与上位计算机进行数据交换，提高了运行速度。
10、通过计算机软件来调整每个通道的光电倍增管负高压，通道负高压分8档调整，从而大大地提高通道的利用率和分析谱线的*线性范围在分析不同材质中的采用，减少了通道的采用数量，降低了成本。
11、可用于多种基体分析： Fe、Co、Cu、Ni、Al、Pb、Mg、Zn、Sn等。
12、采用纯中文Windows系统下的操作软件，操作简单易懂。
13、计算机软件建有数据库系统，方便了测量数据的查询与打印，也可通过网络远程传输数据，方便快捷。
14、各项系统独立供电，组成单元，使用方便，维护简单。
15、采用光学部分恒温措施，保证了仪器的正常运行，从而降低了对环境的要求。
16、采用高精度直线电机进行入缝扫描，速度快，精确度高。
17、采用整体出射狭缝，方面增加通道。
三、技术指标
1、激发光源：
⑴ 供电电压：50Hz、220V±1%
⑵ 输入功率：1.0KVA
⑶ 充电电容：预燃7.5μF， 曝光1.5μF
⑷ 峰值电流：预燃120A，曝光30A
⑸ 主回路峰压：300VDC（采用自动调整峰压）
⑹ 引燃电路：脉冲幅度：+15KV
辅助间隙：采用隧道二极管
放电频率： 400 Hz /200 Hz（可选择150Hz--500Hz）
2、激发台
⑴ 样品台分析间隙：4mm
⑵ 充氩气样品架，无需水冷却
⑶ 分析时间间隔：一般不到1分钟
3、分光仪
⑴ 分析波段范围：160~450nm
⑵ 光栅：曲率半径 750mm
刻划密度：2400线/mm
刻划面积：30×50mm2
闪耀波长（一级）：300nm
线色散：0.55nm/mm
⑶ 入射狭缝宽度：20μm
⑷ 出射狭缝宽度：50μm、75μm
⑸ 光电倍增管：直径28mm,10级侧窗管，熔融石英或玻璃外壳
⑹ 允许zui多通道：31个（可扩张到64个通道）
⑺ 分光仪局部恒温：38℃±0.2℃
4、测控系统
⑴ 测控系统：采用单板机测量和控制，与上位计算机进行数据交换
⑵ 测量方式：分段积分
积分电容容量：0.047μF
重现性：RSD≤0.2%
⑶ 光电倍增管高压电源：
电压：-1000V
稳定度：8小时优于0.5%
高压调节：从-550V到-1000V变化，分8（0-7）档调整
高压设置：用户通过计算机软件改变
5、外形尺寸：
⑴ 主机：长1180mm×宽750mm×高1010mm
⑵ 重量：净重约320Kg
