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可控硅数显灰化炉
| 管式炉采用高纯石英管或高纯氧化铝管作为炉管，工作温度区间800℃至1200℃，客户可根据实际需要选购。该系列设备的控制系统，具有安全可靠，操作简单，控温精度高，保温效果好，炉膛温度均匀性高，可通气氛抽真空等特点，广泛应用于高等院校，科研院所，工矿企业等实验和小批量生产。 真空管式炉以进口硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，具有真空装置，可以通气氛抽真空，真空泵可以根据客户要求的真空度选配，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。 主要用途：高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等。 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 详细参数 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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| 以上数据仅供参考，炉膛尺寸可根据客户要求定制，外形尺寸如有更改，恕不另行通知! |
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