IKN/依肯 品牌
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黑鳞剥离分散机、片层物质高速分散设备、黑鳞剥离设备、德国分散机、实验室分散机、研发型环保分散机、纳米级分散机、中试型分散机、高速分散机
黑鳞是什么？其结构及性质特点是什么呢？
与石墨类似，黑磷的结构使其可以制备二维黑磷晶体。二维材料的某些性质是 块体材料所没有的，目前石墨烯、二维过渡金属硫化物都是这个领域的*。单 层黑磷优异于石墨烯和二维过渡金属硫化物的性能主要体现在半导体和光电性能， 石墨烯有*载流子迁移率，但它的零带隙效应使其无法实现半导体的逻辑开关； 二维过渡金属硫化物（如MoS2）具有不错的半导体性能，其制备的晶体管还有良好 的电信号调节性能，但它的载流子迁移率过低，限制了其在电子领域的应用。
黑磷是常见的三种磷同素异形体（hong磷、白磷和黑磷）中，形态zui为稳定的一 员。黑磷有4种晶体结构：正交、菱形、简单立方和无定形，常温常压下是正交晶型 结构。跟石墨类似，黑磷也为片层结构，但不同的是，同一层内的磷原子不在同一 平面上，呈一种蜂窝状的褶皱结构。层内具有较强的共价键，还留有单个的电子对， 因此每个原子都是饱和的，层与层之间原子靠范德华力作用。
比较好的处理物料的乳化效果，不仅要求设备的核心乳化部件可以进行纳米级的剪切乳化，还要求设备的整个混合搅拌可以均匀分散，从而达到一个整体出色的乳化效果。这就要求乳化机设备有比较好的搅拌方式，IKN依肯乳化机采用多级优化分散头的方式（2G、4M、6F、8SF），既保证了物料的粒径同时也bao证了物料乳化的均匀性，乳化效果可靠。
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二维材料半导体性能对比
| 石墨烯 | MoS2 | 薄层黑磷 |
带隙/eV | 0 | 1.8 | 0.3-1.5（可变） |
载流子迁移率/cm2·V-1 ·s -1 | 150000 | 200 | 1000（厚度 10nm 时） |
获得高质量的二维黑磷是zui为关键的制备环节，研究的思路类比于结构相似的 石墨烯制备，主要的研究集中于近两年。所以二维黑磷的制备仍在研究初步阶段， 产业化尚需时日。目前制备二维黑磷的方法主要有三种：机械剥离法、液相剥离法、 脉冲激光沉积法，其中机械剥离法是zui常用的方法。
管线式超高剪切乳化机由1-3个工作腔组成，在马达的高速驱动下，物料在转子与定子之间的狭窄间隙中高速运动，形成紊流，物料受到更强液力剪切、离心挤压、高速切割、撞击和研磨等综合作用，从而达到分散、乳化、破碎的效果。被加工物料本身和物理性质和工作腔的数量以及控制物料在工作腔中停留的时间决定了粒径分布范围及均化、细化的效果和产量的大小。
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根据一些行业特殊要求，依肯公司在ER2000系列的基础上又开发出ERS2000超高速剪切分散乳化机。其剪切速率可以超过10.000 rpm，转子的速度可以达到40m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强，乳液的粒经分布更窄。由于能量密度ji高,无需其他辅助分散设备。
研发型分散机在设计上的突出特点
① 可更换式加工模块，实现混合，分散，均质，分散，悬浮，湿磨，液粉混合等多种功能。
②小试到中试， 中试到生产，无需重新调整工艺参数。
③ 轴封材料为PTFG，易于更换。
④ 可配置变频控制柜，调节转速及流量。
纳米分散机的优势：
1、高转速对于获得超细粒度产品是至关重要的，IKN分散机转速高达14000rpm，可以将物料粒径细化到0.2-2微米，从而得到均匀细腻的成品。
2、采用德国双端面集装箱式机械密封，并配有冷却系统，可que保设备24小时连续不断的生产，设备稳定性高。
3、模块化设计理念，可以根据物料的具体需求变换模块，实现多种生产需求。
IKN研发用分散机主要参数
1、主轴转速：0-14000rpm；
2、线速度：0-44m/s；
3、定转子结构：三层定转子；
4、定转子间隙：0.2-0.3mm；
5、处理量：0-300L/H；
本设备有以下方面的显著改进和革新：
德国IKN制造，百年历史，享誉quan球。在上海设有合作公司，负责销售和服务。该系列产品产量zui高达125 吨/小时，真正CIP/SIP功能，符合美国3A 认证。机器加工实施严格的质量控制，各部件经久耐用，运行稳定。在诸多跨国公司赢得ji高赞誉，如巴斯夫，拜尔，德固赛，杜邦，英威达，罗地亚，罗盖特，欧莱雅，宝洁，高露洁，雀巢，达能，喜力，GE，BP，SHELL等shi界*公司。
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