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等离子去胶机
目前,在半导体器件制造工艺中,特别是在用大园片投片进行研制和生产小、中、大规模集成电路中,用等离子去胶代替常规化学溶剂去胶及湿氧、高温干氧去胶,已显示出大的性。该工艺不仅操作简单,成本低,去胶速率高,基片温度低,表面清洁,不碎片,可节约大量的化学溶剂,消除丙酮、酸雾及废酸带来的环境污染,同时去胶完后,不用丙酮棉花对硅片表面拭胶。因而,可大幅度提高管芯成品率及器件可靠性。PlasmaSTAR®系...... 参考价面议 -
反应离子刻蚀系统
反应离子刻蚀系统RIE，全称是ReactiveIonEtching，反应离子刻蚀，是一种微电子干法腐蚀工艺。RIE是干法蚀刻的一种方式，其原理是当在平板电极之间施加10～100MHZ的高频电压（RF，radiofrequency）时会产生数百微米厚的离子层（ionsheath），在其中放入试样，离子高速撞击试样而完成化学反应蚀刻，此即为RIE（ReactiveIonEtching）。因此为了得到高...... 参考价面议 -
磁控溅射系统
ThenextgenerationMagnetronSputteringDeposittem,ispractical,inexpensive,expandableandhighlyreliable,usheringinthefutureofresearch.TheMagnetronSputteringSystemiscompletelycustomizable.Thechamberca...... 参考价面议 -
PECVD沉积系统
PECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)--等离子体增强化学的气相沉积PECVD：是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促使反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD). 参考价面议 -
探针台
探针台主要应用于半导体行业、光电行业、集成电路以及封装的测试。广泛应用于复杂、高速器件的精密电气测量的研发，旨在确保质量及可靠性，并缩减研发时间和器件制造工艺的成本。 参考价面议 -
键合机/划片机
用WireBonder(引线键合机)进行键合后的芯片，其焊点可能会出现位置偏移、断线和线尾(Pigtail)过长等缺陷. 参考价面议 -
光刻胶/显影液/剥离液
光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。在紫外光等光照或辐射下，溶解度会发生变化的薄膜材料。AZ4562正性厚光刻胶，具有粘附力，在普通湿法蚀刻和电镀工艺中具有粘附力，广泛应用于半导体行业。AZ5214这种特殊的光刻胶用于需要负壁轮廓的剥离技术（lift-of工艺）。由酚醛清漆树脂和萘醌二叠氮化...... 参考价面议 -
碳布/碳纸
石墨化碳布、碳纱、碳纤维物。具有良好的缝纫性能，并可制作各种厚度的成品复合材料。纤维表面有许多突出特性。该纤维具有高跨层的抗拉强度和层间剪切强度，不起皱的轮廓结构是细纱织物的另一个优点。材料进行真空石墨化过程和低温浸泡，导致在一个非常热稳定和化学纯织物低氧化率。碳织物包括低成本碳、碳材料是有效化学气相渗透或预浸工艺中的。 参考价面议 -
晶圆片
我们提供各种直径，各种等级，多种规格，多种基底材料的晶圆片产品，尤其着重于直径100毫米,200毫米,300毫米的生产级与测试级质量的晶圆片。由于每个半导体设计都有其特殊规格,我们可根据您的要求制作各种规格的晶圆片。一、按级别可分为光刻级晶圆片，测试级晶圆片，低阻晶圆片，外延晶片（EPI），机械级晶圆片，炉管级晶圆片，再生晶圆片和一般级晶圆片。二、按直径可分为50mm,76mm,100mm,125...... 参考价面议 -
注射泵
Ossila注射器泵（也称为注射器驱动器）通过电机驱动注射器活塞，以指定的速率移动固定体积的溶液，输送/去除特定量溶液。根据注射器的内径和电机移动的距离，可计算出溶液移动的体积和速率。特点•高精度、可连续传输液体，范围从nl/s到ml/s；•设计简单，适应尺寸从5μl到50ml的注射器；•流量范围广泛，从1nl.s-1到3ml.s-1；•高度的用户灵活性-在输液和退液模式下均可操作；•每个注射泵可...... 参考价面议 -
程序剪切仪/切膜仪
切膜机/切膜仪是一款用于实验室的手动切膜系统。大部分的免疫测定条都可以轻易切割，包括含有担体或非担体硝酸纤维膜及带有标签材料的尼龙膜。Matrix1201切膜机/切膜仪是用于蛋白质印迹（WesternBlot）及其类似应用的理想切膜设备。切膜机/切膜仪具有一体式的结构，切膜系统方便快速清洗或调整切条宽度。根据我们具体开发定制型生产系统的经验，Matrix1201切膜机/切膜仪满足对高速、精密公差生...... 参考价面议 -
匀胶机/匀胶旋涂仪
匀胶机有很多种称谓，英文叫SpinCoater或者SpinProcessor，又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机，总的来说，他们原理都是一样的，即在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。适用旋涂材料的尺寸范围型号最小尺...... 参考价面议