TP 系列 高频感应等离子体发生器2

通过高频感应加热产生大约1万度的热等离子体，经过物理/化学反应过程，能合成纳米颗粒及厚膜(镀膜)。 参考价面议

TP-99010FDR 粉末供应装置2

用气体通过管道定量输送粉末的送粉器。该台式送粉器能稳定地供给亚微米～100μm左右的微细颗粒。通过载气输送微细粉末。还能够输送有着高聚集特性的1μm～纳米尺寸的微细颗粒。 参考价面议

TP-99260FDR　粉末供应装置

本机型通过增加自动调整控制粉末供应量的新功能，使得粉末供应的稳定性得到大幅提升。外部信号控制也得以实现。 参考价面议

TP 系列 高频感应等离子体发生器

通过高频感应加热产生大约1万度的热等离子体，经过物理/化学反应过程，能合成纳米颗粒及厚膜(镀膜)。 参考价面议

TP-99010FDR 粉末供应装置

用气体通过管道定量输送粉末的送粉器。 参考价面议

BS-60211DEM/BS-60210DEM　电子枪

本电子枪可适用于低温蒸镀金属。 用于脱膜过程时进行电极膜的真空蒸镀。 可以在抑制反射电子以及热辐射的同时完成高速率蒸镀。 而且为了防止坩埚之间的交叉污染做了特别的设计。 参考价面议

BS-60250DEM 电子枪

高速率金属厚膜电子束蒸镀用电子枪，标配长寿命灯丝，在φ50 mm范围内实现500 Hz以上高速扫描的同时还可以达到16kW的输出，并且在构造上取消了电子枪上方的部件从而减少了蒸气附着，使得日常维护负担大幅减轻。 参考价面议

BS-60310BDS Bombardment Deposition Source

使用电子束照射填充了蒸镀材料的坩埚背面，通过电子轰击来达到加热坩埚的目的。 蒸镀材料没有受到电子束的直接照射，此种间接加热方式，相较于电阻式加热可以更加稳定的完成蒸镀。 参考价面议

BS-60610BDS Bombardment Deposition Source

此设备为利用电子束轰击间接加热法的蒸镀源。与旧型号(BS-60310)相比增加了电子束扫描功能，并通过扫描功能实现了高速率，厚膜蒸镀，适配大型装置等特点。 参考价面议

BS-72010ICE/BS-72020ICE/BS-72050ICE 电子枪电源

这是一款拥有更高性能，操作更便捷的电子枪电源。 参考价面议

反射电子捕集器

电子束蒸镀过程中，照射到蒸镀材料的电子束的一部分成为反射电子（后方散乱电子）被放射出来，到达基板后会对基板造成伤害，并且与基板温度上升和膜的附着性降低有一定的关联。反射电子捕集器是一款与电子枪组合以后可以有效减少反射至基板的反射电子量的设备，也可以用于对既有蒸镀设备的后期改装。 参考价面议

EM-09100IS 离子切片仪

用于TEM 、STEM 、 SEM 、 EPMA 和 AUGER样品制备的创新方法离子切片仪制备薄膜样品比传统制备工具快速、简单。低能量、低角度（0°到6°）的氩离子束通过遮光带照射样品，大大降低了离子束对样品的辐照损坏。即使是柔软的材料,制备的薄膜质量也，对不同成份的样品甚至含有多孔合成物也都能够有效制备。 参考价面议