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光掩模（Reticle/Mask）颗粒探测系统 PR-PD2-颗粒物监测仪 环境大气颗粒物监测仪
光掩模（Reticle/Mask）颗粒探测系统 PR-PD2是通过激光散射方式对曝光工艺中光掩模上的细小颗粒进行检测的装置。可检测光掩模图案面（Pattern Surface）上的zui小粒径为0.35μm。并且通过线＆空间1.0〜1.5μm的图案识别功能，可以把检测误差抑制在zui低限度。 参考价面议 -
光掩模（Reticle/Mask）颗粒探测系统PR-PD3-颗粒物监测仪 手持式颗粒物监测仪
外形小巧、运营成本低、应用范围广光掩模（Reticle/Mask）颗粒探测系统PR-PD3系列产品运转效率高，具有*稳定性，受到众多半导体制造工厂的高度评价。继承了各个结构简单、*稳定运转的搬运系统，高通过量、可靠性高的光学系统 参考价面议 -
上海市化学药液浓度计 CS-700 在线式污泥浓度计
化学药液浓度计 CS-700系列的化学药液浓度计拥有更好的性能去监测混酸中的各个成分，包括高精*半导体制程中所需的各种化学药液。通过改进HORIBA的光谱分析测量法，CS-700系列实现了5倍的监测性能提升。提高质量控制能有效改进半导体工艺流程。 参考价面议 -
HF/HCl浓度计监测仪 HF-960H 在线式浓度计
HF/HCl浓度计监测仪 HF-960H适用于测量高浓度的*和盐酸等HF-960H精确测量用于半导体制造或其它制程中所使用的*和盐酸。使用4-电极电导率测量转换，测量范围广 参考价面议 -
碳质探头传感器（高浓度型）监测仪 HE-960HC-浓度计 在线浓度计
碳质探头传感器（高浓度型）监测仪 HE-960HC适用于半导体和FPD生产制程中化学药液和废液的管理HE-960HC测量电导率可作为基于化学药液和废水管理的参数。其对偶电路和软件与4-极式炭质传感器相结合测量范围可达0至1000mS/cm而无需切换。 参考价面议 -
上海市TMAH浓度计监测仪HE-960H-TM 在线浓度计
TMAH浓度计监测仪HE-960H-TM适用于显影液中TMAH的浓度管理HE-960TM可精确测量半导体和液晶生产中光阻显影药液制程中主要成份TMAH （四甲基氢氧化铵）的浓度。 参考价面议 -
SC-2浓度计监测仪 CS-152 甘油浓度计
SC-2浓度计监测仪 CS-152高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的SC-1溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测清除金属离子时所使用的SC-2溶液（HCl/H2O2/H2O）中的各成分浓度。 参考价面议 -
BHF浓度计监测仪 CS-137 波美浓度计
BHF浓度计监测仪 CS-137高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的BHF溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测硅氧化膜的蚀刻以及晶片表面的微粒清除作业时所使用的BHF溶液（NH4F/HF/H2O）中的各成分浓度。 参考价面议 -
SPM监测仪 CS-150-水质五参数监测仪 上海SPM监测仪
SPM监测仪 CS-150是半导体制造中清洗工艺的SPM溶液用于高精度药液浓度的监测仪，实现了过去所没有的高速响应性和小巧化。可以实时检测金属离子以及有机物的清除作业中所使用的SPM溶液（H2SO4/H2O2/H2O）各成分浓度，通过报警信号通知自动补给的时间。 参考价面议 -
SC-1浓度计监测仪 CS-131 便携式悬浮物浓度计
SC-1浓度计监测仪 CS-131是半导体制造中清洗工艺的SC-1溶液用于高精度药液浓度的监测仪，实现了过去所没有的高速响应性和小巧化。可以常时间的监测微粒以及有机物的清除作业中所使用的SC-1溶液（NH3/H2O2/H2O）各成分浓度。 参考价面议 -
光纤式药液浓度计 CS-100F1系列 便携式离子浓度计
光纤式药液浓度计 CS-100F1系列通过利用光纤传播光信号，把样品单元直接组装到清洗装置配管上，实现实时在线测量。 同时，1台单一的浓度计zui多可以测量4种药液或量程，在单槽/单晶圆清洗系统中进行单线监测成为了可能。此外，测量单元型产品适用于更高精度需求应用的浓度反馈控制。 参考价面议 -
*浓度计监测仪CM-200A/210A 污水处理厂污泥浓度计
*浓度计监测仪CM-200A/210A为监测半导体制造工艺中*浓度而开发出来的高精度*浓度计。该设备通过采用电磁感应导电率计测量并实时显示*浓度。广泛适用于各个使用*的制造工艺。 参考价面议