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实验室水平管式炉
真空管式炉采用高纯石英管或高纯氧化铝管作为炉管，工作温度区间 300℃至 1600℃，客户可根据实际需要选
购。该系列设备具有安全可靠，操作简单，控温精度高，保温效果好，炉膛温度均匀性高，可通气氛抽真空等
特点，广泛应用于高等院校，科研院所，工矿企业做高温烧结金属材料处理实验、质量检测和小批量生产等 参考价￥9999 -
KS-MSC实验室小型单靶磁控溅射镀膜仪器
实验室小型单靶磁控溅射镀膜仪是一种用于在材料表面制备薄膜的设备，它具有广泛的应用领域，包括化学、材料科学、冶金工程技术、物理学等。它的主要功能包括制备各种单层膜、多层膜和掺杂膜系，能够镀制硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜以及其他化学反应膜。特别地，它还可以用于镀制铁磁材料，这对于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层非常有用。 参考价￥39800 -
KS-EVC桌面型实验室蒸发镀膜仪
桌面型实验室蒸的介绍
小型蒸发镀膜仪是一种广泛应用于科研、教学以及工业生产中的精密设备，主要用于在基材表面沉积一层或多层薄膜材料，从而改变基材的光学、电学、机械等性能。这种设备的工作原理基于热蒸发镀膜技术，即在真空环境下，通过加热蒸发源材料，使其升华或熔化后蒸发成气态，气态的分子或原子在基底表面沉积，形成薄膜。电阻式加热方式是指通过电流在蒸发源材料中产生的电阻热来加热蒸发源，使其达到蒸发温度。 参考价￥38600 -
KS-MFAS1400度实验室气氛炉箱式气氛炉
箱式气氛炉通过预抽真空，确保炉膛内氧含量降到zui低，然后通入氮气、氩气等惰性气体，从而在气氛保护下获得理想的热处理环境。因其优良的气氛环境以及紧凑实用性，目前已广泛的应用于材料实验室或者半导体、氮化硅等产品的小批量生产。 参考价￥20000 -
KS-MF17001700℃ 实验室加热设备箱式马弗炉
采用多晶莫来石纤维炉膛，导热系数低。强度高，具有优良的保温节能效果。炉顶采用加强型符合结构，⻓期使用不塌顶。 参考价￥12000