KS-DF1700度氧化锆烧结炉义齿炉齿科炉
氧化锆烧结炉主要用于义齿加工厂完成二氧化锆牙冠的结晶烧结。氧化锆烧结炉采用1800度纯加热棒,不会对牙冠造成二次污染;氧化锆烧结炉炉膛采用四面加热,比传统马弗炉结晶炉温场更均匀,烧结出来的牙冠透气性、一致性更好。氧化锆烧结炉装卸采用更人性化的下装方式,装卸方便;是义齿加工厂的理想选择。 参考价¥14200KS-SC实验室光刻胶旋涂仪/匀胶机
产品简介:KS-PC-2L实验室桌面型等离子清洗机
2L等离子清洗机除了具有清洗功能外,在特定条件下还 可根据需要改变某些材料表面的性能,在清洗过程中,小型 等离子清洗机的辉光放电可以加强这些材料的粘附性、相容 性和浸润性。KS-MF17001200C/1400C/1700C 实验室马弗炉箱式炉
采用多晶莫来石纤维炉膛,导热系数低。强度高,具有优良的保温节能效果。炉顶采用加强型符合结构,⻓期使用不塌顶。 参考价¥12000KS-MFAS1200度实验室气氛马弗炉
箱式气氛炉通过预抽真空,确保炉膛内氧含量降到zui低,然后通入氮气、氩气等惰性气体,从而在气氛保护下获得理想的热处理环境。因其优良的气氛环境以及紧凑实用性,目前已广泛的应用于材料实验室或者半导体、氮化硅等产品的小批量生产。 参考价¥20000KS-MSC-300*350三靶磁控溅射镀膜仪铁钴镍合金镀膜
三靶磁控溅射镀膜仪以三靶协同溅射技术为核心,在高真空环境中构建精准可控的等离子体沉积系统。其创新原理在于通过 100~1000Gauss 强力磁场约束电子运动轨迹,使氩气等离子体高效轰击三个独立靶材,释放的离子经电场加速后均匀沉积于基底表面。相较于单靶设备,该技术突破性解决了涂层成分固定、调控困难的痛点 —— 通过 PLC 系统精确控制各靶的溅射功率。 参考价¥386000KS-MSC-300*350实验室三靶磁控溅射镀膜仪
三靶磁控溅射镀膜仪以三靶协同溅射技术为核心,在高真空环境中构建精准可控的等离子体沉积系统。其创新原理在于通过 100~1000Gauss 强力磁场约束电子运动轨迹,使氩气等离子体高效轰击三个独立靶材,释放的离子经电场加速后均匀沉积于基底表面。相较于单靶设备,该技术突破性解决了涂层成分固定、调控困难的痛点 —— 通过 PLC 系统精确控制各靶的溅射功率、频率 参考价¥350000实验室水平管式炉
真空管式炉采用高纯石英管或高纯氧化铝管作为炉管,工作温度区间 300℃至 1600℃,客户可根据实际需要选KS-MSC实验室小型单靶磁控溅射镀膜仪器
实验室小型单靶磁控溅射镀膜仪是一种用于在材料表面制备薄膜的设备,它具有广泛的应用领域,包括化学、材料科学、冶金工程技术、物理学等。它的主要功能包括制备各种单层膜、多层膜和掺杂膜系,能够镀制硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜以及其他化学反应膜。特别地,它还可以用于镀制铁磁材料,这对于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层,以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层非常有用。 参考价¥39800KS-EVC桌面型实验室蒸发镀膜仪
桌面型实验室蒸的介绍KS-MFAS1400度实验室气氛炉箱式气氛炉
箱式气氛炉通过预抽真空,确保炉膛内氧含量降到zui低,然后通入氮气、氩气等惰性气体,从而在气氛保护下获得理想的热处理环境。因其优良的气氛环境以及紧凑实用性,目前已广泛的应用于材料实验室或者半导体、氮化硅等产品的小批量生产。 参考价¥20000KS-MF17001700℃ 实验室加热设备箱式马弗炉
采用多晶莫来石纤维炉膛,导热系数低。强度高,具有优良的保温节能效果。炉顶采用加强型符合结构,⻓期使用不塌顶。 参考价¥12000