FORMFACTOR 150mm模块化探针台 MPS150

低成本模块化灵活定制150mm探针台！FormFactor为其的150mm探针台引入了模块化概念。客户以低成本轻松配置探针台方案，满足当前和未来的需求。客户只需选择主机型，再按需要选择配件或套装。 参考价面议

FORMFACTOR 300mm半/全自动探针台 CM300xi

在实验室里以高度自动化实现了同类的测量性能*CM300xi探针台可以应对极其复杂环境带来的测量挑战，例如随着时间的推移和在多个温度下对小Pad进行无人值守测试。在EMI屏蔽，不透光和无湿气的测试环境中，可实现的测量性能，适用于各种应用。热管理增强功能和实验室自动化功能可提高产量并缩短数据处理时间。CM300xi支持Contact Intelligence™ – 一种的技术，可实现自动半...... 参考价面议

FORMFACTOR 200mm 半/全自动探针台 SUMMIT200

200mm探针台，以高达5X的效率收集高精度测量数据新型Cascade Summit200的200mm探针台对于尽可能快地收集单个或大量晶圆高精度测量数据至关重要。Summit200为研发、器件表征、建模或小批量生产而设计，确保低噪声、DC、RF、mmW和THz的精确测量，确保以的速度获取精确数据，可提供半自动或全自动方案。新一代探针台采用PureLineTM技术，实现目前市场上的噪声...... 参考价面议

水分仪 MA-8A

1、采用SHS快速灵敏特性的称重传感器，使得非常少的样品在高精度称量下都能得到非常精确的水分测定，在测试过程中，可直接确认干燥的状态，推测结束时间。2、MA-8A快速水分测定仪具有自动去皮功能，即使连续进行测定，也可以通过零点漂移校正进行准确的测定。3、提供的灯管监控隔离窗设计，防止测量物加热时溅污灯管。4、采用卤素灯和设计的SRA（二次辐射辅助装置）辐射器来缩短测量时间，形成快速均匀的...... 参考价面议

FORMFACTOR S参数集成测量系统 IMS-K-mmW/THz

IMS-K-mmW/THz 是与Keysight VNA集成，用于测量从RF到mmW到THz的S参数集成系统。Keysight PNA全面、交钥匙集成测量系统（IMS），用于从RF到毫米波到太赫兹的晶圆级研发测量FormFactor和Keysight应用专家将一起帮助您配置一个*、完整的解决方案，包括：FormFactor探针台：CM300xi、SUMMIT200、EPS150RF、EPS150...... 参考价面议

岛津X-Ray检测设备 SMX-2000

岛津SMX-2000采用了高速载物台、配置了外观图像决定位置功能、只点击一下鼠标就能完成所有必要设定的跟踪功能等，能够更加迅速地移动样品和变换观察角度，实现透视检查。而且，本系统采用的软件（XEVOLUTION）将曾使用在SMX-1000上的步进、教学功能进行升级，可以增加设定计测功能，这样用户就能根据自己的需要设定检查步骤。本设备使用管球采用没有高压电缆的设计，与平板检出器配合使用，能够得到没有...... 参考价面议

日立中型扫描电镜SU3800 / SU3900

1) 支持超大/超重样品测试　　可搭载的样品尺寸：“SU3800” 标配可搭载直径200mm样品的样品仓，可应对高度为80mm、重量为2kg的样品。 “SU3900”作为日立的大型扫描电镜，标配可搭载直径300mm样品的样品仓，可应对高度为130mm、重量为5kg(比前代机型提高2.5倍*2)的样品　　(2) 支持大视野观察　　■“SU3800”与“SU3900”...... 参考价面议

日立磁控溅射器MC1000

日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品直径：60 mm日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品高度：20 mm特点：采用L...... 参考价面议

日立离子研磨装置IM4000

日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式带有两种研磨配置：断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结构高分辨成像。平面研磨：将样品表面均匀研磨5平方毫米，从不同角度有选择地研磨，...... 参考价面议

离子研磨系统ArBlade5000

日立ArBlade 5000离子研磨系统能够实现高产量，并制备广域横截面样品。　　离子研磨系统使用通过在表面上照射氩离子束引起的溅射效应来抛光样品的表面。样品预处理系统可以用于电子和材料等各个领域的研发和质量控制等。　　与机械抛光不同，离子研磨系统处理样品而不会变形或施加机械应力。因此，用于预处理样品的离子铣削系统的应用范围不断扩大，不仅包括扫描电子显微镜（SEM），还包括原子力显微镜（SPM...... 参考价面议

纳米尺度3D光学干涉测量系统 VS1800

测量表面形貌的新标准随着材料不断趋向平坦化、薄膜化及结构的微细化，人们开始要求比传统的普通SPM（扫描探针显微镜）、触针式粗糙度测量仪及激光显微镜等产品更高的测量精度。相比较利用光干涉原理的白光干涉扫描显微镜，纳米尺度3D光学干涉测量系统VS1800，使用更方便，测量精度跟高，测量范围更大。此外，传统的采用线粗的测量方式仍存在“测量位置导致的结果偏差”和“扫描方向导致的结果偏差”等重大课题。VS1...... 参考价面议

热场式场发射扫描电镜 SU5000

热场式场发射扫描电镜 SU5000 参考价面议