日立离子溅射仪MC1000 Ⅱ

日立离子溅射仪MC1000 Ⅱ

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-11-20 11:51:14
32
产品属性
关闭
北京思普特科技有限公司

北京思普特科技有限公司

免费会员
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

日立离子溅射仪MC1000 Ⅱ

详细介绍

日立离子溅射仪MC1000采用了电磁管电极，能够限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。

样品直径：60 mm

样品高度：20 mm

特点：

采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件

可处理较厚或较大的样品(选配件)

记忆功能可存储常用加工

上一篇：Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 用于刻蚀硅微机械陀螺芯片 下一篇：Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 刻蚀碳化硅微光学元件
热线电话 在线询价
提示

仪表网采购电话