Table PVD-15 金属和有机物热蒸发系统

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2024-04-03 15:48:27
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杭州大华仪器制造有限公司

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产品简介

应用领域:TablePVD-15一款小型电阻蒸发镀膜仪,主要特点是设备体积小,结构简单紧凑易于操作,适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、钙钛矿太阳能电池、锂电池、有机膜等,也可用作教学及生产线前期工艺试验等

详细介绍

应用领域:

Table PVD-15 一款小型电阻蒸发镀膜仪,主要特点是设备体积小,结构简单紧凑易于操作, 适用于实验室制备金属单质膜、 半导体膜、钙钛矿太阳能电池、锂电池、有机膜等,也可用作教学及生产线前期工艺试验等。 

 可镀制低熔点金属及合金材料薄膜,单层 / 多层 / 复合膜,( Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Cr,Ni 等);镀制非金属 / 化合物 等材料薄膜( Mo03, LiF 等;有机材料等蒸发;太阳能电池、LED 的研究和实验;描电镜制样等。

Table PVD-15 有机物蒸发镀膜仪.jpg

基本配置: 

真空腔室:Φ250mm(ID) x 300mm(H) 

真空系统:机械泵 + 分子泵两级真空系统 前级泵:VRD-16 机械泵,抽速:4L/S 主抽泵:分子泵,抽气速率:300L/S 主抽阀:CCQ-100 超高真空气动插板阀, 

极限真空:<5×10-5Pa 

恢复真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

真空测量:两低一高数显复合真空计 

源:2 组金属蒸发源;(标配) 最多 2 个有机束源炉源;(选配) 

蒸发电源:采用恒压、恒流真空镀膜电源, 功率 2.4KW,电流调节精度:0.01A 

样品台:可容纳样品尺寸:3 英寸样品托一个 , 配挡板,转速 0-30rpm 连续可调 ; 样品可加热控温, 温度范围:室温 -300℃,控温精度 ±0.5℃; 

系统控制:10 英寸触摸屏 +PLC 控制(可选手动按钮控制)

工作气体 : 干燥压缩空气、氮气 

: 单相 220V , 50Hz, 16A 

:18-25 , 1L/min,压力 < 0.4MPa

选择配置: 

样品台可水冷,采用直接式水冷形式,水冷不控温 

全量程真空计( Inficon 

速率 / 膜厚监控测仪(SQM-160 

可选进口蒸发电源 

系统要求标准配置: 

真空腔室:Φ250mm(ID) x 300mm(H) 

真空系统:机械泵 + 分子泵两级真空系统 前级泵:VRD-16 机械泵,抽速:4L/S 主抽泵:分子泵,抽气速率:300L/S 主抽阀:CCQ-100 超高真空气动插板阀, 极限真空:<5×10-5Pa 

恢复真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

真空测量:两低一高数显复合真空计 

源:2 组金属蒸发源;(标配) 最多 2 个有机束源炉源;(选配) 

蒸发电源:采用恒压、恒流真空镀膜电源, 功率 2.4KW,电流调节精度:0.01A 

样品台:可容纳样品尺寸:3 英寸样品托一个 , 配挡板,转速 0-30rpm 连续可调 ; 样品可加热控温, 温度范围:室温 -300℃,控温精度 ±0.5℃; 

系统控制:10 英寸触摸屏 +PLC 控制(可选手动按钮控制)


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