DH-PECVD 等离子增强管式炉

DH-PECVD 等离子增强管式炉

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具体成交价以合同协议为准
2024-04-03 15:37:26
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杭州大华仪器制造有限公司

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产品简介

为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）

详细介绍

为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种 CVD 称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）。

辉光放电等离子体中：电子密度高 10 9 -10 12 /cm, 电子气体温度比普通气体分子温度高出 10-100倍。

主要技术指标

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