产品简介
PECS II 精密离子刻蚀与镀膜系统 利用宽幅氩离子束对样品进行抛光和镀膜处理，从而得到高质量的SEM 成像和分析结果。
详细介绍
优点：
全自动氩离子抛光系统适合用于制备 SEM 样品，可以得到无损的表面、横截面和镀层，以保护样品或克服非导电样品的荷电问题。
- 只需一次抽真空，就可现实对样品的抛光、刻蚀或镀膜
- 在低至 100 伏的电压下刻蚀，从而快速地得到无损样品表面
- 可制备直径高达 32 毫米的样品
- 在不暴露于空气的情况下，将样品从 PECS? II 仪器转移到 SEM/FIB 或手套箱中（可选）
- 利用 Gatan 的 DigitalMicrograph? 软件存储和分析图像，数字光学成像
- 集成的 10 英寸彩色触摸屏显示和控制所有 PECS II 参数
