氩离子镀膜仪AL-1000-广州智汇科学仪器有限公司手机版

详细介绍

一、镀膜制样系统的特点：

1、面积大：0~?25毫米、 0~?50毫米。
2、溅射样品表面膜层更均匀。
3、颗粒度更小（3nm左右）
4、溅射到样品表面能量低，对样品损伤小。（适用温度敏感性高的样品）
5、可以溅射各种固体靶材（如各种金属、陶瓷、碳等）。
6、控制精度高，实验结果精准可控重复性高。
7、在同一真空腔内，可实现清洗和镀膜，降低污染样品造成的数据偏差。
8、加入特殊气体，可进行反应离子束刻蚀。
9、可实现的功能有：等离子清洗、镀膜等。
10、数字化自动控制系统
二、技术参数：
1、真空度：极限真空度5*10-3Pa （不通氩气）
2、*高压：（1）200~6000V
3、样品台可旋转。
4、具有自保护功能。

5、单离子枪

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