元件型气态除粉装置TU-KN100大成技研TAISEI

元件型气态除粉装置TU-KN100大成技研TAISEI

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TU-4100/J，TU-5100/J，TU-6100/J

产品介绍

大成技研株式会社提供的“气体粉末去除装置”主要去除半导体、液晶制造设备（离子注入、CVD、蚀刻等）中排出的气体反应生成物（微细粉末）。

特别是，通过旋转涡流吸附和高性能磁性元件，可以全部排除离子注入和CVD设备中产生的1μm以下的反应产物。该装置在元件内几乎没有压力损失，可用于真空泵的前级和后级，是一种创新的粉末捕集器，可以轻松处理现有过滤器无法去除的细粉末。它有望显着减少维护工时并提高生产率。

气态除粉装置“Torapack”有元件型、旋流型、组合型三种。我们还有一个“Torapack 柜”，可以最佳地存放“Torapack”

元素类型

捕获从元件表面到深层的反应产物（粉末）。它使用“Trapac Element”，可以收集重量超过其自身重量 10 倍的粉末。

旋流式

它安装在漩涡结构（漩涡处理板）内部。“涡流元件”用于在朝向中心的旋流中反复碰撞和吸附废气中的反应产物。

组合型

通过在多层中使用“Trapac Element”和“Uzu Element”，我们认识到这两种类型的元素的好处。

TRAPPACK（元素类型）

特征

去除细小反应产物（细粉）

单元密度低，网格空隙大

粉末分层在元件的表面和内部。

主要用途

注入

蚀刻

TRAPPACK（Uzu型）

这是一种气体除粉装置，是 Trapac 的进一步发展，配备了漩涡型元件。

特征

由于螺旋结构，粉末不会长时间经历压力损失

几乎所有粉末都被涡流数和涡流螺距的组合所排除。

粉末分层在安装的涡流元件的表面上。

TRAPPACK（组合型）

Trapac进一步进化的气态除粉装置，配备组合型元件（涡流型+元件型）。

特征

去除细小反应产物（细粉）

单元密度低，网格空隙大

粉末在螺旋和元件部分分层。

主要用途：CVD、蚀刻