ADVANCE电弧等离子体沉积源APS-1理工

ADVANCE电弧等离子体沉积源APS-1理工

电弧等离子体沉积源APS-1，电弧等离子体法纳米粒子形成装置APD系列

产品介绍

电弧等离子体沉积源 APS-1

同时沉积不同的“目标”。
通过将这种蒸镀源添加到现有的电弧等离子体法纳米粒子形成装置APD系列或您自己的真空室中，可以同时蒸镀不同的“目标”，从而可以生成具有新特性的材料。

用法

生成具有多个沉积源的化合物

添加到现有的真空室

特征

纳米粒子的尺寸比传统的湿法更均匀，因此可以生产出高活性的催化剂。

纳米颗粒尺寸可选择约 1.5nm 至 6nm

通过改变气氛容易产生氧化物和氮化物

如果有相当于ICF070（VG50）的法兰，则可以任意方向安装。

无需水冷设备，维护方便

规格

电弧等离子体法纳米粒子形成装置APD系列

使用脉冲真空电弧放电的新型纳米粒子形成装置
脉冲真空电弧沉积是一种在简单过程中生成金属离子并形成超薄膜和纳米粒子的方法。
可以获得其他气相沉积方法无法获得的效果，例如薄膜平坦性和微粒形成。

用途

APD-S（基板沉积模型）
金属薄膜（磁性、等离子体、保护膜）

使用APD-P（粉末支撑型）纳米颗粒的燃料电池催化剂、尾气催化剂、光催化剂、VOC分解催化剂、碳纳米管催化剂、等离子体激元

特征

通过改变电容器的电容量，纳米粒子的粒径可以在大约 1.5 nm 到 6 nm 之间自由选择。

任何导电材料（靶）都可以变成等离子体* 靶的比电阻为 0.01Ωcm 或更小

通过改变气氛容易产生氧化物和氮化物

与湿法工艺相比，负载型纳米颗粒表现出更高的催化活性