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所在地
· 低压等离子系统，用于不同材料表面的处理
· 配置自动/手动模式，实现控制高机能
· 10.5L腔体可处理多种样品
· 适合于研究院、高校、研发中心使用
· ８” Wafer去胶清洗
| 型号 | ATTO | ATTO PCCE | |
| 控制系统 | 手动控制 | PCCE 控制系统 | |
| 工艺气路 | 双路气体 | ||
| 工艺气体 | O2，Ar，N2，CO2，H2，Air等 | ||
| 单体导入 | H2O等单体（选配） | ||
| 流量计 | 针阀流量计 | MFC流量计 | |
| 真空 腔体 | 材质 | 高硼硅玻璃腔体，盖子门带观察窗(石英，铰链门选配) | |
| 内尺寸(Dia.×D) | 211×300mm | ||
| 容积 | 10.5L | ||
| 电极 | 360度外置环绕电极 | ||
| 发生器*
| 40KHz 0~200 W 13.56MHz 0~50 W 13.56MHz 0~300 W | ||
| 真空压力计 | 指针式压力计（选购） | 皮拉尼数字式压力计 | |
| 计时器 | 旋钮式（选购） | 数字式 | |
| 托盘 | 高硼硅玻璃（石英选配）W200xD260xH5mm | ||
| 外形尺寸（WXDxH）mm | 525x450xD450 | ||
| 电源 | AC220V 50Hz 10A | ||
| 真空泵 | 排气速度8m3/H | ||
