TC WAFER晶圆测温系统 光刻晶圆温度测量系统

TC为热电偶的简称， TC WAFER则是直接镶嵌于晶圆表面的温度传感器，可以实现晶圆表面温度的实时测量。借助于放置在晶圆表面特定位置之温度传感器，可获得这些特定位置的真实温度测量值以及整天晶圆温度分布；同时，也可利用此传感器来持续监控在热处理工程中晶圆暂态温度变化，例如：升温，降温过程及延迟周期等！（温度的均匀与否，良率）

半导体晶圆温度检测的重要性

在半导体生产过程中，晶圆温度是一个至关重要的参数。不同的工艺步骤对于温度有不同的要求，过高或者过低的温度都会对半导体器件的性能产生负面影响。因此，准确监测和控制晶圆的温度是保证半导体产品质量和产能的关键。

TC WAFER晶圆测温系统优势

它可以实现非接触式测温，不需要直接接触晶圆表面，避免了污染和破坏的风险。其次，TC Wafter晶圆测温具有较高的测量精度和响应速度，能够实现对薄膜沉积过程中微小温度变化的准确监测。最后，TC Wafter晶圆测温技术具有良好的重复性和稳定性，能够长时间稳定运行。

产品特点

半导体制造厂 Fab，PVD/CVD 部门、RTP 部门等使用

传感器可以定制

高精度多通道数据采集仪

优异的软件功能，方便数据统计、趋势绘图和数据导出

TC WAFER晶圆测温系统 光刻晶圆温度测量系统