OTF-1200X-4-NW 生长纳米线的CVD炉

OTF-1200X-4-NW 生长纳米线的CVD炉

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-04-13 08:05:09
79
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产品简介

OTF-1200X-4-NW是一种紧凑型CVD炉

详细介绍

OTF-1200X-4-NW是一种紧凑型CVD炉,专为生长各种纳米线而设计,基片3英寸.  在法兰的左侧装有一个小加热器,可对输入的气体、液体、固体进行预加热,然后 进入 CVD 炉进行纳米线的生长, 可滑动的样品架使操作更为简单.

性能指标和基本配置
炉体结构

紧凑型CVD炉是由OTF-1200X-4 单温区炉演变而来 :

内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命

石英管:4.33" O.D x 4.05" I.D x 15" L 工作温度:1100ºC 

右边带样品支架的法兰是滑动的,方便操作在加热器和CVD炉之间的法兰是预加热气体的通道,同时也起密封作用。 

在炉子左侧的小加热器是对输入CVD 炉的气体、液体、固体或混合物进行预加热:

1.2''O.D x 6''L SS 作为加热腔小加热器工作温度:600ºC 

左边法兰具有密封和气体通道的作用。  详细结构请看下图

加热区

CVD 炉: 400mm

小加热器: 150mm

工作温度

CVD 炉:

  • 工作温度: 1100°C ( < 2 hour )>
  • 连续工作温度: 200~1000°C
  • 升温和降温速度: 10°C/min

小加热器:

  • 连续工作温度: 0~500°C
  • 升温和降温速度: 10°C/min
工作温度
  • CVD 炉和加热器:
  • PID/自整定的数字控制,具有 30段可控程序
  • 热偶:  K type
  • 控温精度: +/- 1°C
  • 可用计算机进行控制,相关硬件和软件如下(选配)

 

控温仪表操作视频

1

真空和密封法兰

CVD 炉: 右法兰:  

  • 水冷避免O型圈融化(水冷机可选配)
  • KF25 真空 快接 (可与真空泵、波纹管、真空阀等连接)
  • 可滑动使客户操作更简单:样品可快速 送入和取出
  • 一个石英样品支架 ( 3"dia. ):与石英挡板滑动法兰连成一体
  • 左法兰 (在CVD 炉和小加热器之间):装有4个 1/4'' 卡套连结的通气管:
  • 法兰上有两个独立 1/4''口,可单独将任何气体通入 CVD 炉
  • 一路 1/4'' 口将预热气体通入CVD 炉
  •  一路1/4''口将不加热的气体通入CVD 炉(在 CVD 炉内, 通过“T”型结构与加热气体汇合。)
额定电压

单相, 220V AC, 50/60 Hz, 

额定功率

 3KW (要求20 A 空开)

外形尺寸

1200(L)X450(W)X510(H)mm

重量

100kg

质保期

一年质保期(不包括炉管,硅胶 O 型圈和加热元件等损耗件.)

质量认证

CE 认证

所有电器元件(>24V)都通过 UL / MET / CSA 认证

若客户出认证费用,本公司保证单台设备通过德国 TUV 认证或 CAS 认证

   

注意事项

①炉管内气压不可高于 0.02MPa

②由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为 0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全

③当炉体温度高于 1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态

④进入炉管的气体流量需小于 200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击

⑤石英管的长时间使用温度<1100℃

⑥对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于 0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉 管破裂,法兰飞出等)

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