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主要特点 | 多种溅射靶头及电源可选,自由组合,具体请致电我公司销售部。
根据所使用的电源(DC或RF),可以沉积金属或非金属材料。
一个旋转开关可以依次激活溅射头,可在真空或等离子体环境中自动切换,不影响真空度。
可以安装五种不同材料的靶材,每个靶头可单独设置溅射时间功率等参数,用于生长不同成分的薄膜。
可选购多个射频电源,同一时间溅射多个靶材。
可选配设备控制软件,用电脑控制溅射的所有参数。 | ||||||||||
溅射腔体 | 真空腔体采用304不锈钢制作
腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (105 L)
铰链式腔门,直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口
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溅射头&样品台 | 5个1英寸的磁控溅射头,带有水冷夹层(图一)
溅射腔体内安装有电动挡板
溅射距离:溅射距离可调 溅射角度:溅射角度可调
实验时,需要将靶材和靶材的铜垫片用导电银浆粘合粘合,(可在本公司购买导电银浆)
可以单独订购RF连接线作为备用(图二)
设备需要一台水冷机,用于靶头冷却(图三)
原理图请参考(图四)
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样品台 | 直径为150mm的样品台,上面覆盖一旋转台,带有10mm的孔洞,每次露出一个样品接收溅射成膜。
样品台尺寸:Φ150mm,可通过程序控制来旋转,可制作16种不同组分的薄膜
样品台可以加热,温度可达600℃(根据配置不同可能会有变动,具体请咨询销售部)
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真空系统 | 安装有KF40真空接口
真空度:4.0e-5Torr(分子泵)(参考值,具体请点击)
可在本公司选购各种真空泵
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进气 | 设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶
设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气流 | ||||||||||
靶材 | 所要求靶材尺寸:直径为25mm,厚度3mm
可在本公司选购各种靶材
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薄膜测厚仪(可选) | 可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上
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净重 | 60Kg(不包括泵) | ||||||||||
质量认证 | CE认证 | ||||||||||
质保 | 一年保修,终身技术支持。
2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。 点击查看售后服务承诺书。 | ||||||||||
使用提示 | 此设备为DIY设备,参数变化较大购买前请务必电话仔细沟通
为了得到较好的薄膜质量,必须通入高纯气体(建议> 5N)
在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净
要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面
超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声(2)异丙醇超声-去除油脂(3)吹氮气干燥(4)真空烘箱除去水分。
等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。
制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力。
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警告 | 注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体。
气瓶上应安装减压阀(设备标配不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
溅射头连接到高电压。为了安全,操作者必须在关闭设备前装样和更换靶 |