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| 品结构 | 石英真空腔体：280mm OD×260mm ID×310mm H，易清洗和放入样品
安装有一个2英寸的样品台，并且样品台可以旋转，使所制薄膜达到更好的均匀性
采用钨丝篮作为发热源，温度可达到1700℃，并且配用专用氧化铝舟，可装入样品（仅1600℃以下使用，若蒸发温度大于1600℃，样品应直接放在钨丝篮中）
精确控温：可设置30段升降温程序，控温精度为+/-1℃
真空度：10-5Torr(如采用分子泵系统)
进气系统可实现腔体的清洗和反应蒸发镀膜
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| 工作电源 | 电压：AC220V，50/60Hz，单相
功率：1200W，电流为30A 4蒸发坩埚，每个容积为3mL。四坩埚可依次进行蒸发，实现多层膜沉积工艺（不能同时蒸发）
采用钨丝篮作为发热源，并且配有专用的氧化铝坩埚，热电偶安装在坩埚底部，以便于温度测量和控制（如图1）
标准采用S型热偶：工作温度为200℃-1500℃（图2）
可选B型热电偶：工作温度为1200℃-1700℃
安装有一个数显的温度控制器：可设置30段升降温程序，控温精度为+/- 1ºC（如图3）
也可将仪器转换到手动调节接状态，内部不安装热电偶，直接采用手动调节输出电流大小，发热源温度可高达2000℃，可实现对样品镀碳等实验（图4）
仪器中配备4个蒸发坩埚，每个坩埚均配有2个钨丝蓝加热元件 图1 图2 图3 图4 图5 |
| 样品台 | 仪器顶部安装有样品台，直径为Φ50mm
样品台可旋转
样品台和蒸发源之间的距离可以调节，调节范围为：40mm-85mm
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| 样品厚度监测（可选） | 腔室内可安装精密的薄膜测厚仪，可点击图1&图2查看详情。测厚精度可达0.10 Å。测厚仪LED显示可实现：
根据数据库，输入涂层信息
显示镀膜总厚度以及镀膜速度
可选购反射光谱薄膜测厚仪--TFMS-LD，用于薄膜厚度的检测，点击图3查看详情 图1 图2 图3 |
| 真空系统（选配） | 设备上有一KF25接口用于连接真空泵
• 真空度可达4.0E-6 Torr（采用涡旋分子泵）
• 双极旋片真空泵或干泵，可使仪器真空腔体的真空度达到10-2Torr
• 真空度达到10-2torr时，可蒸发一些贵金属，如金和铂，也可蒸发一些有机材料，可选购数显防腐真空计PCG-554(测量范围3.8x10-5 to 1125 Torr.)
• 高真空度可达4.0E-6 Torr（采用涡旋分子泵），此时可蒸发对氧敏感的材料，如Al. Mg, Li，分子泵上带有复合真空计（可测量真空度为1.0E-7Torr）
• 可在本公司选购各种真空泵和真空计 |
| 进气口 | 进气接口为1/4NPS，可向真空腔体中通入惰性气体，对腔体进行清洗，也可通入反应气体，进行反应蒸发镀膜
进气口安装有一针阀，用于调节进气流量 |
| 耗材 | 注：氧化铝坩埚以及钨丝蓝为耗材，可与本公司销售联系购买 |
| 产品尺寸 | 总体尺寸：550mm L×550mm W×750mm H
石英腔体尺寸：280mm OD×260mm ID×310mm H |
| 质量认证 | CE认证 |
| 质保期 | 一年保质期，终生维护 |
| 产品质量 | 80kg |
| 应用注意事项 | 为了获得高真空度，可采用以下做法
使用温度高于1300℃时，保温时间不可大于1小时，否则会损坏密封圈
当腔体的各阀门关闭时，请勿开启升温程序或手动调节电流进行加热
当仪器正在蒸发材料时，不可打开泄气阀或关闭真空泵，只有当加热温度降至100℃时，才可放气或关闭真空泵
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