PlasCalc等离子体监控系统通过测量等离子体反应腔的发射光谱，实时监测反应腔内的等离子体组分和密度、等离子体温度、电子密度等参数。由等离子体发射光谱的强度值可计算得出等离子组分、颗粒密度及电子密度；由同一电子的能量吸收谱线同另外谱线的对比可计算得出电子温度。测量输出结果，可反馈控制等离子体的发生，从而获得优质的反应流程和效果。

PlasCalc等离子体监控系统主要包括：高性能线阵CCD光谱仪、传输光纤、接收透镜、过程监控装置及测量分析软件。

PlasCalc应用于测量等离子体镀膜沉积情况，监测等离子浊刻，检查表面清洁处理，分析等离子反应腔控制情况，监测异常污染排放现象，磁控溅射、光学镀膜、终点测量、开发等离子过程的监测和控制优化。

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