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金刻蚀光栅 |
>>> 选择光栅需要考虑的问题
该系列光栅主要用于高功率以及高效率的应用。 我们在金材料上设计和刻蚀光栅,用于红外波段(4~12微米)的激光应用。金光栅特别适合于追求高效率红外激光应用。在高功率应用中,为了避免高功率激光打坏光栅,通常都要在光栅上镀一层铝。该系列光栅的基质是不胀钢或者陶瓷。如果您希望用其他基质,可以和公司联系。
产品性能 ●在特殊基质上刻蚀的金层可以用于4~12微米的应用。 ●在铜基质上铝层刻蚀出来的是标准的分子激光光栅。 主要参数 线密度g/mm .............. 70~ 450 工作范围(μm) ............. 4~12 基质 ................... 铜,不胀钢,陶瓷,硅 通光孔径 ............... 90% 划线与边缘的平行度 ....... ± 0.5° 尺寸公差 ................ ± 厚度公差 ............... ± 典型峰值效率(偏振).................≥95% |