精密离子刻蚀与镀膜系统PECS II Gatan 685

精密离子刻蚀与镀膜系统PECS II Gatan 685

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-08-28 11:47:08
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产品简介

利用宽幅氩离子束对样品进行切割、抛光、研磨和镀膜处理,从而得到高质量SEM成像和分析结果

详细介绍

利用宽幅氩离子束对样品进行切割、抛光、研磨和镀膜处理,从而得到高质量SEM 成像和分析结果。

全自动氩离子抛光系统适合用于制备 SEM 样品,可以得到无损的表面、横截面和镀层,以保护样品或克服非导电样品的荷电问题。

· 只需一次抽真空,就可现实对样品的抛光、刻蚀或镀膜

· 在低至 100 伏的电压下刻蚀,从而快速地得到无损样品表面 

· 可制备直径高达 32 毫米的样品

· 在不暴露于空气的情况下,将样品从 PECS™ II 仪器转移到 SEM/FIB 或手套箱中(可选)

· 利用 Gatan 的 DigitalMicrograph® 软件存储和分析图像,数字光学成像

· 集成的 10 英寸彩色触摸屏显示和控制所有 PECS II 参数

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